EDA（Electronic Design Automation）是電子設計自動化（Electronic Design Automation）的縮寫，是指通過計算機技術在電子設計領域進行設計、驗證、分析和製造的自動化工具和方法。 EDA在晶元的設計、製造和測試中起著至關重要的作用。 然而，由於國內EDA發展相對較晚，全球EDA市場一直被美國巨頭壟斷，中國市場占有率較低，佔市場份額不足10%。 然而，近年來，國內EDA取得了長足的進步，並逐漸縮小了與國外競爭對手的差距。
國產EDA發展面臨兩大瓶頸：一是工藝覆蓋不夠全面，很多國產EDA只涉及部分晶元設計，無法實現全工藝覆蓋;此外，一些國產EDA在支援先進製程方面能力有限，過去主要支援28nm製程，甚至很多製程都不支援14nm製程。 此外，國外EDA廠商也涉足IP（智財權）領域，提供各種IP核供晶元廠商使用，降低設計門檻，提高設計效率。 由於這些因素，國內EDA只能處於追趕階段，而不能佔據市場主導地位。
然而，近年來，國內EDA取得了長足的進步。 根據2024年的資料，國產的Empyrean已經位居全球第四，市場份額約為6%。 此外，所有國產EDA的市場份額合計達到10%，市場份額較2024年的5%翻了一番。 此外，國產EDA在技術上也取得了重大突破。 在14nm製程階段，國產EDA已基本實現全製程覆蓋，不再依賴國外EDA產品，可以完成所有設計和驗證工作。 更令人振奮的是，國內幾大廠商不僅在多個環節和工藝上實現了14nm製程，而且在更先進的3nm製程上也取得了突破。 例如，Empyrean表示，其產品涵蓋數字、模擬、混合訊號和射頻領域，可以支援0從35um到3nm的各種工藝節點。 概倫電子還開發支援先進工藝節點的產品，包括7nm、5nm和3nm。 鴻鑫微納去年實現了5nm工藝，並成功研發了3nm工藝。 這些突破標誌著中國晶元設計的乙個重要里程碑，也證明了國產EDA已經準備就緒。
雖然國產EDA在技術上取得了突破，但要真正實現行業領先，仍面臨挑戰和壓力。 首先，國產EDA需要在工藝覆蓋面和技術能力等方面與國外巨頭形成較大的差距，並應用於更廣泛的領域。 其次，國內EDA需要加強與晶元設計公司和製造企業的合作與交流，共同推動整個行業的發展。 此外，國產EDA還需要重視智財權保護，加強自主研發能力，提高產品質量和技術水平。
總之，國產晶元在技術實力和市場占有率方面都取得了長足的進步，而國產EDA作為支撐晶元設計的重要工具，正在迎頭趕上。 通過不斷的創新和突破，國產EDA在14nm工藝上實現了全製程覆蓋，在更先進的3nm工藝上取得了重大突破。 但是，要真正取得晶元行業的領先地位，還需要加強與晶元設計企業和製造企業的合作，共同促進行業的繁榮與發展。 相信隨著國產EDA的不斷發展壯大，中國芯將迎來更加光明的未來。