ASML無視禁令，向中國交付了光刻機，並可能面臨變革。
晶元的重要性不言而喻，我想大家都明白，這幾年美國一直在打壓我們的晶元產業，先是禁止台積電製造華為代工晶元，後來又禁止相關晶元製造公司向我們提供製造先進工藝晶元的裝置和晶元設計軟體，等等， 甚至一些高階晶元現在也被禁止進入我們。
乙個令人擔憂的問題是用於晶圓製造的EUV光刻技術，它與以前的光刻技術不同。 EUV光刻可用於製造7奈米晶圓、5奈米晶圓等先進工藝，這也是美國禁止ASML銷售EUV光刻技術的原因。 目標是切斷先進晶圓製造的道路，並阻礙我們在這一領域的發展。
尤其是前段時間，美國加大了力度，他們似乎不滿足於我們禁止銷售EUV光刻機，還想禁止銷售DUV光刻機，尤其是頂級DUV光刻機型號，即ARFI型DUV光刻機，於是有訊息稱美國將加入荷蘭和日本的行列， 但結果是什麼？
前段時間，**公布了中國晶圓製造企業裝置招標結果。 在競標結果中，Hurley寫道，日本尼康公司中標了一台光刻機，這是一台ARFI DUV光刻機。
對於尼康來說，在光刻機市場上，尼康雖然也能生產出DUV光刻機的頂級產品，但由於未能攻克EUV光刻機，尼康與ASML的競爭陷入了僵局，但ASML也有乙個很大的劣勢，那就是沒有產品接縫。
我們以7nm晶元為例，我們知道它需要使用EUV光刻技術，但並不是所有的晶元都使用EUV光刻技術，它也需要使用DUV光刻技術，因此，使用EUV光刻技術和ASML的DUV光刻技術自然更有效率，相容性更強，所以尼康的DUV光刻技術很難征服市場， 事實上，ASML不僅是ASML在EUV光刻技術方面的主要競爭對手之一，也是ASML在高階DUV光刻機型方面的主要競爭對手之一。事實上，ASML不僅是EUV光刻機的領跑者，也是高階DUV光刻機的領跑者。
因此，尼康的頂級DUV光刻機很難開啟銷售，尼康最終被ASML競標，實際上被前美國打壓。 當美國成立EUVLLC聯盟時，尼康最初參加了，但最終被美國開除，只允許光刻機公司ASML參加，後來才發現，尼康早在那之前就已經是光刻機的世界領導者了。
那麼現在，面對中國市場的巨大需求，尼康怎麼可能願意放棄這個千載難逢的機會，而恰逢我們國內廠商也在製造技術上取得了進步，比如中芯國際的SAQP技術，它使用DUV光刻機，也可以生產製造5nm晶元， 並且不依賴EUV光刻機，這使得尼康的產品更適合中國市場，尼康的產品更具優勢。
毋庸置疑，來自尼康的供應已經徹底讓ASML感到恐慌：一方面，它已經失去了很大一部分DUV光刻機的自有市場，另一方面，曾經被禁止供應的EUV光刻機的需求，現在在中國減少了，甚至不再需要了。
當然，還有另外一層因素，那就是我們國產高階DUV光刻機在國內只有乙隻腳，2024年初，國產光刻顯示系統**上國王光學開始進行相關招標工作，預計今年將交付相關產品，或許也正是因為如此，尼康才會好好利用這個時間視窗， 所以我們認為，美國越是被禁止。相反，我們國產光刻機發展得越快，技術越強，我們就越能用更短的時間實現國產替代。