美國、日本、荷蘭強強聯手，中國企業在三項技術上快速突破外媒匆匆忙忙
前段時間有報道稱，美國在爭取日本和荷蘭共同實施限制方面似乎取得了新的進展。 ASML已確認，雙方已達成協議，將限制先進半導體裝置，特別是DUV光刻機的出口。
此前對EUV光刻機的限制，以及現在對DUV光刻機的限制，都是為了限制我國高質量晶圓製造的發展，阻礙我國高科技的發展。 但這似乎沒有達到目的，我們已經取得了進展！
以華為為例，它已經受到足夠多的限制，美國已經連續實施了四輪以上的制裁，允許英特爾、高通等高階晶元廠商切斷晶元，台積電停止晶元拼接，谷歌切斷Android和GMS服務。
即便如此，華為並沒有放棄自己，而是繼續前行，雖然生活不景氣，但還是開始扭虧為盈。
最困難的手機業務也挺了過來，去年還有7個9%的市場份額，就要把榮耀或者唯一乙個品牌分開實現增長，可見華為的實力如果不做約束會有多強。
再比如中芯國際，自成立以來，似乎一直伴隨著來自西方的限制，因為他們根本不希望我們研發製造高質量的晶元，但它也取得了世界第五名的成績，擁有14nm和7nm的製程實力。
如果不是2024年訂購的EUV被阻止出貨，恐怕中芯國際會成為全球第三家量產7nm的公司。
現在，美國繼續增加限制，以前低於 10 奈米，現在低於 14 奈米。 因此，中芯國際已將重點轉移到成熟的28奈米工藝上，以抓住這一水平晶元需求的增長。
為限制DUV而達成的協議可能會影響中芯國際的擴張，但困難是暫時的。 只會讓我們失去幻想，全力以赴向國產28nm光刻機發起衝擊，也許在壓力下，研發進度會更快。
這些年來，我們的重大突破不是在西方全面封鎖的環境下取得的，而是在裝甲鉤機、北斗衛星、國際空間站等全國人民的辛勤勞動下取得的。
西方對我們的限制和封鎖，從長遠來看是機遇，現在美國、日本、荷蘭剛剛聯手，中國企業取得了三個突破！
首先，3奈米光子晶元技術的突破。 前段時間有報道稱，中科院在光子晶元方面取得了重大進展，即3奈米光子晶元電晶體技術的進步，這將有助於實現3奈米光子晶元的量產。
據悉，北京中科資訊通訊公司去年已準備建設光子晶元生產線，預計今年將實現量產。
光子晶元雖然不同於電子晶元，但可以滿足通訊、資料中心等領域的需求。 雖然電子晶元目前是主流，但已經發展到了極限，光子晶元是未來晶元發展的方向之一。
二是OLED主要材料國產化。 以前我們是"缺乏核心和更少的螢幕"後來，在京東方等中國企業的努力下，國產螢幕不斷取得突破，LCD出貨量奪得全球第一，OLED也在迎頭趕上。
三星領跑手機OLED螢幕市場，LG領跑大尺寸OLED螢幕市場，京東方領跑手機OLED螢幕市場，僅次於三星，但主要材料仍然有限。 前段時間，國內廠商打破了日本的壟斷，實現了全國性的突破。
OLED面板所需的重要材料FMM的成功量產，將有助於國產OLED螢幕的發展。
第三，小型5G基站將實現國產化。 近年來，三大運營商不僅從事通訊業務，還投入研發。 前段時間，中國電信正式宣布5G小擴充套件基站國產化PRRU研發成功。
關鍵點在於，5G小基站晶元、器件國產化率達到100%，產品國產化全面實現。
此外，前段時間，日本**發布了關於華為小型5G基站拆除的新聞稿，指出為了進一步完善美國元件，國產裝置的佔比已經下降到1%。 可以想象，後者限制了誰的業務受到威脅。
這三個發展可能看起來平淡無奇，但它們意義重大。 也就是說，半導體的全球進步是每乙個微小進步的不斷積累，所以不用擔心侷限性，限制越多，進步越大。
雖然光刻技術是一項非常複雜、非常先進的技術，但它也是人造的，就連ASML總裁都說過，全世界的物理定律都是一樣的，只要我們集中全部力量去克服，相信國產光刻技術一定會早日突圍！
對於剛剛達成聯合聯盟的美國、日本和荷蘭，中國企業已經宣布了三項國內突破。 有外媒直言：這太快了！