晶元堪稱現代科技的“食品”，在人工智慧、物聯網、新能源汽車等眾多新興領域都有重要應用。 在手機、電腦等傳統消費電子領域，以及醫療、家電等領域，也是不可或缺的。
我國在智慧型手機、電腦等消費電子領域的產業鏈非常龐大，新能源汽車、物聯網、人工智慧等領域的發展也非常迅速。 因此，中國對晶元的需求一直很高，很多晶元半導體公司都非常關注中國市場。
近年來，我國晶元產業發展非常迅速，突破了核心技術領域的多項關鍵技術，在晶元國產化替代的道路上仍越走越遠，有望到2024年實現晶元國產化率達到70%的目標。
讓人沒想到的是，中國接二連三的突破，引來了更多美國和西方設定的“路障”，但因為領先的技術領域不多，所以能夠設定“路障”的領域屈指可數，其中最關鍵的就是晶元半導體領域。
晶元半導體是乙個非常複雜的行業，涉及晶元設計、晶元製造、晶元封測、半導體裝置、半導體材料等領域，還需要使用晶元指令集架構、EDA軟體、晶元設計平台等軟硬體工具。
除了限制高階晶元的出貨外，美國還與日本、荷蘭結成三方聯盟，限制半導體裝置的出貨。 在晶元製造中，需要使用6種23種半導體裝置，每一種都非常關鍵，其中最重要的是光刻機，光刻工藝佔晶元製造的20%以上，所以光刻機也非常關鍵。
最先進的EUV光刻機只能由荷蘭的ASML出貨。 EUV光刻機被認為是生產7nm及以下工藝先進晶元的重要裝置，不使用EUV光刻機很難製造出7nm及以下的先進晶元。
因此，中國芯要想突破先進工藝晶元，實現EUV光刻機的國產化非常重要。 從目前的訊息來看，我國在光源、物鏡、雙工作台三大核心領域基本實現了技術突破。
更令人意想不到的是，清華大學唐傳翔團隊近日在《自然》雜誌上發表了一篇名為《穩態微波束原理的實驗演示》的文章，從中可以看出，該團隊利用PTB的測光光源完成了全球首個穩態微束原理實驗。
該技術使光子源能夠產生高效率、高復用頻率的極紫外光，而極紫外光是EUV光刻機的核心光源，這意味著該技術可以解決極紫外光源問題，幫助國產高階光刻機打破EUV光刻機的技術壁壘。
該技術生產的EUV光刻機雖然規模大，搬遷難度大，不那麼方便，但它可以在短時間內快速製造出大量可用的EUV光刻機，堪稱“光刻工廠”技術。
這無疑將有助於中國光刻機的快速發展，也有助於突破三方協議的限制。 不僅如此，哈爾濱工業大學近期在高速超精密雷射干涉儀、電能轉換離子電路技術等多個領域取得了核心技術突破。 毋庸置疑，中國芯的發展解決了乙個關鍵問題，可以稱之為實現彎道超車，也難怪外媒會說：已經開始突破了。
從目前的市場情況來看，光刻機領域市場占有率最大的是荷蘭光刻機巨頭ASML，這也是唯一一家可以出貨EUV光刻機的公司。 EUV光刻機雖然出貨量不大，但長期以來一直佔ASML營收的50%左右。
這基本上意味著，如果中國完成EUV光刻機的突破，就意味著ASML的營收將受到嚴重影響。 畢竟，從中國的產能和技術發展水平來看，EUV光刻機實現技術突破後，不僅能夠打破ASML目前的市場壟斷，還能夠“打倒”產品
這基本上意味著，ASML未來要繼續用其獨家的EUV光刻機“收穫”，已經不是那麼簡單了。 這也引起了ASML的擔憂，畢竟誰也不想再有乙個競爭對手出來，所以ASML總裁此前在國際上曾表示：中國研發光刻機和晶元，正在破壞國際秩序。
這種說法自然是無稽之談，如果不是ASML與美國合作限制EUV光刻機出口，中國也不會那麼急於開發先進的光刻機裝置，更何況中國對光刻機有足夠的需求，如果不能進口，自然會採取自主研發來滿足市場的需求。
附言：
美國和西方聯合起來，通過限制半導體裝置的出貨來遏制中國晶元的發展，但讓人沒想到的是，中國在EUV光刻機方面相繼取得突破，清華大學最近公布了“光刻工廠”計畫，引起了國際社會的廣泛關注。
從目前的情況來看，一旦中國實現了技術突破，打破了只有ASML才能出貨EUV光刻機的現狀，ASML將無法像現在這樣繼續大批量出貨，而用EUV光刻機獲得大量的收入和利潤，毫無疑問，ASML已經開始著急了， 甚至外媒紛紛表示：突破已經開始。
我是技術創造者