塗膜前的等離子清洗處理效果如何？

隨著科學技術的發展，如何增強牢固性和可靠性，為了提高光學元件鍍膜前的清潔度，等離子清洗是指在真空環境中利用氣體放電產生等離子體，同時對基板施加負偏壓，為等離子體提供轟擊能量， 轟擊基材表面，達到去除汙染物的目的。

等離子轟擊不僅可以去除表面汙染物，而且是薄膜鍍膜前的有效工藝，使後續鍍膜鏡片的表面具有很強的親水性能。

等離子清洗機在轟擊材料表面時的作用如下：

1）濺射清洗，進入材料表面時受到彈丸轟擊，衝擊去除吸附在表面的氣體分子和汙染物。

2）如果撞擊離子向晶格原子傳遞的能量超過原子的離位閥，則晶格原子可能離位到間隙位置並形成點缺陷。

3）晶體破壞，如果離子轟擊產生穩定性缺陷，表面結構會由晶體結構變為無定形結構。

4）改變表面形狀，在材料表面，表面的離子轟擊會改變表面形狀，改變材料表面的粗糙度。

等離子清洗後，隨著表面附著力的提高，塗層等離子清洗是一種表面處理技術，可以通過氣體反轉來清洗物體表面。

在處理過程中，將物體置於低壓等離子體中，通過化學反應和物理作用可以去除表面的汙垢、氧化物、有機化合物等雜質。

等離子清洗可用於汽車電子、矽橡膠、玻璃等各種材料的清洗，等離子技術的特點是不會損傷物體表面，能加速表面反應和清洗效率。