佳能的5nm光刻機只有EUV的10%，為什麼不賣到中國呢？
眾所周知，前段時間，佳能在其官網上正式宣布其NILFPA-1200NZ2C奈米壓印光刻機生產裝置出貨，而這款光刻機與EUV光刻機不同，它繞過了EUV的其他奈米壓印技術，可以生產5nm晶元。
一時間，整個晶元圈都震驚了，因為所有7nm以下的晶元製造都不得不使用EUV光刻機，而世界上只有ASML可以生產EUV光刻機。
然而，當時很多人對佳能的NIL奈米壓印光刻機持懷疑態度，因為他們不知道什麼時候會賣出去，成本、能效、效率、良率會是多少。
前段時間，佳能CEO三井不二夫同意接受採訪，並提到了一系列關鍵指標引數，或許能部分解答大家的疑慮。
據三井不二雄介紹，佳能的奈米壓印光刻機銷量僅為EUV光刻機的10%左右。 同時，其能耗僅為EUV技術的10%。
更重要的是，從總投資成本來看，採用NIL奈米壓印技術，裝置投資成本可降低到原有EUV裝置的40%左右。
至於奈米壓印光刻，三井不二雄表示，它可以在小批量晶圓生產中為客戶提供更大的靈活性，甚至可以讓晶圓設計工廠不必依賴晶圓代工廠進行晶圓流和小批量晶圓生產。
可以推測，它的量產能力應該不會太強，畢竟對於一般的晶圓設計公司來說，不需要大規模的生產線，只需要小批量的生產線來驗證，所以奈米壓印光刻技術更適合小規模生產。
華為是一家晶元設計工廠，但目前由於眾所周知的原因，製造受阻，因此迫切需要這台裝置來生產自己的晶元，使用5nm工藝。
三井不二雄已經確認，這套裝置不能賣給中國，中國此前被列入日本出口管制清單"這是一種印刷光刻系統，線寬可以達到 45 nm 或更小"限制。
最明確的規則是，用於製造14nm及以下晶元的裝置不能出口到中國大陸，因此佳能不能將該裝置出售給中國。
但不管怎麼說，雖然暫時買不到，但也給了我們乙個方向，同時也給了ASML一記重擊，後續的EUV光刻機就沒有那麼神了。