對於台積電來說，很多人都聽說過，作為全球知名的晶元代工企業，佔據了全球一半以上的市場份額，不僅擁有眾多先進工藝技術的加持，而且在光刻機等裝置數量上也領先於三星等廠商。
然而，台積電近期的發展並不順利，先是四個月的時間裡，市值蒸發了760多億，然後是連續乙個季度的營收和淨利潤**。 近日有訊息稱，ASML最新推出的NA EUV光刻機將首先出貨給英特爾，預計明年出貨的10臺NA EUV光刻機中，有6臺將出貨給英特爾。
從表面上看，這件事與台積電關係不大，但實際上，台積電是這件事上最大的輸家。 因為裝置優勢本來是台積電能夠佔據較大市場份額，收穫大部分訂單的主要原因之一，現在這個優勢已經抹去甚至變成了劣勢，台積電自然很不舒服。
目前，全球唯一能出貨EUV光刻機的公司是荷蘭光刻機巨頭ASML，但隨著先進工藝技術的發展，目前的EUV光刻機已經難以滿足先進工藝晶元的生產。 例如，如果要生產3nm工藝晶元，則需要多次進行。 重複**會導致成本增加，產量下降，說白了就不划算了。
因此，ASML開發了最新的NA EUV光刻機，其解像度為8nm，可用於生產2nm工藝的晶元。 這基本上為英特爾、台積電、三星等廠商的2nm製程晶元方案提供了裝置保障。
這也意味著，誰能獲得更多的NA EUV光刻機，誰就能在2nm工藝晶元上獲得優勢。
ASML實際上是光刻機領域的一顆冉冉公升起的新星，它由幾名飛利浦員工在離開飛利浦後於2024年創立。 長期以來，ASML的市場份額和影響力遠不如被譽為“雙星”的日本尼康和佳能。
後來，在英特爾等美國公司的領導下，成立了EUV聯盟，共同開發極紫外光源等EUV光刻機核心技術，ASML也加入了這個聯盟，也是唯一的非美國公司。 因此，在EUV光刻機光源技術開發成功後，只有ASML被允許使用該技術。
此後，ASML在浸沒式DUV光刻機領域取得了重大突破，在技術上超越了尼康和佳能，逐漸開始成為光刻機巨頭。 在浸沒式DUV光刻機技術的研發上，台積電頗具影響力，台積電高管林本健被譽為“浸沒式光刻機之父”。
因此，ASML與台積電、英特爾等廠商之間的聯絡一直非常複雜，台積電也是ASML的股東之一。
正是因為一層關係，台積電長期拿下了ASML出貨的絕大部分EUV光刻機，基本上近一半的EUV光刻機都是台積電拿到的。 這也帶來了台積電的裝置優勢，再加上台積電在先進製程技術上的持續優勢，因此佔據了很大的市場份額。
自從晶圓代工模式出現以來，英特爾逐漸放棄了晶元製程技術和晶元代工業務的研發，轉而專注於CPU處理器的研發。 因此，在很長一段時間裡，英特爾對光刻機的需求並不大，晶元基本交給台積電代工。
然而，由於市場環境的波動，英特爾的收入和淨利潤受到影響，決定重啟晶元代工業務。
英特爾不僅在世界各地建立了大型工廠，還引進了大量的EUV光刻機。 英特爾曾表示，計畫在2024年左右在晶元代工領域超越三星。 不過，不少業內人士認為，英特爾的真正目標其實是台積電。
自從英特爾重啟晶元代工業務以來，就開始大量引進光刻裝置，包括EUV光刻機。 這對台積電的影響不大，因為台積電現在的產能利用率在80%左右，對增加EUV光刻機的影響並不大。
但讓張忠謀沒想到的是，英特爾不僅計畫在2024年實現2nm工藝晶元量產，比台積電早一年，還拿下了大量頂級NA EUV訂單。 這意味著台積電可以得到的NA EUV遠低於英特爾，在2nm工藝晶元的競爭中無疑是落後的。
附言：
ASML正式宣布，新一代NA EUV光刻機已經完成，並準備將第一套發給英特爾，明年還將交付五颱。 這意味著台積電在光刻裝置方面的優勢變成了劣勢，恐怕張忠謀的心都碎了。
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