ASML駁斥28nm國產晶元難保傳，外媒質疑其實力。
前段時間，前美國和日本禁止對半導體進行出口管制。 不久之後，荷蘭也正式禁止對半導體裝置實施出口管制。 根據禁令要求，從今年9月1日起，將對包括ASML在內的高品質DUV光刻機實施出口管制，包括光刻機製造商。 未經主管部門授權，ASML等廠家將無法出口中高階光刻機。
ASML作為全球最大、最先進的光刻機製造商，出口全球唯一的EUV光刻機，在14nm至45nm光刻機領域佔據絕對領先地位。 在禁令的限制下，ASML將限制28nm以下光刻機的銷售，中國企業獲得28nm光刻機的難度將大大增加。
由於晶圓禁令，英偉達無法向中國企業銷售晶圓，因此英偉達在中國市場推出了A800晶圓和其他特種晶圓，以填補市場空白。 由於中國市場禁止晶圓，AMD還推出了特殊晶圓與英偉達競爭。
可以看出，即使矽片被禁止，各大廠商也會繼續推出針對中國市場的專用矽片，搶占市場份額。 在此背景下，有訊息稱：ASML將針對中國市場推出特殊版的DUV光刻機。
一時間，許多關心中國晶元內部元器件發展的人歡欣鼓舞，對ASML的倡議表示歡迎。 而在7月6日，ASML正式澄清了這一傳聞：ASML遵守相關法律法規，沒有發布面向中國的特別版光刻機。 面對ASML的宣告，有外媒表示：中國的28奈米核心無法保證。
據悉，28奈米晶元可以滿足中國75%以上的工業需求，如家電行業、航空航天行業、汽車行業和低端智慧型手機在28奈米晶元的支援下可以正常執行。 只有少數高階智慧型手機和精密裝置會使用28nm工藝以下的晶元。
28nm晶元這麼重要，如果真的像外媒說的那樣，那麼就沒有28nm晶元可用嗎？
那麼真的是這樣嗎？答案是否定的。 為什麼？我認為有三點需要說明。
首先，中芯國際已經掌握了28nm晶元的生產工藝，之前已經從ASML購買了一批28nm光刻機，因此具備生產28nm晶元的能力。 此外，中芯國際正在建設四座晶圓廠，其中兩座已經完工。 屆時，中芯國際28nm晶圓生產線數量將大幅增加，從而帶動28nm晶圓的生產。
其次，中國半導體企業已經攻克了多項28奈米光刻技術，自主研發28奈米光刻技術是可能的。 據悉，哈爾濱工業大學團隊研發了28nm光刻用超高速精密雷射干涉儀，並為28nm光刻提供了技術支援長春光學機械研究所提供28nm光刻光學透鏡浙江奇爾機電為28nm光刻提供滲透系統華卓精工提供28nm光刻雙颱最關鍵的光源系統，北京光係數，也可用於28nm光刻最關鍵的光源系統，北京科易巨集源，也可以提供28nm光刻。
在這些半導體公司的幫助下，上海微電子得以開發出28奈米光刻技術。 目前的情況也是如此，據說上海微電子正在研發28nm光刻機，相信在不久的將來，我們可能會看到國產28nm光刻機。
要解決28nm光刻機的瓶頸，我國28nm晶圓生產是最大的問題。
最後，我國在晶圓封裝、EDA工具、光刻膠、蝕刻機、離子注入機、蝕刻機、蝕刻機等方面實現了技術突破，使自主生產28奈米晶圓成為可能。 28nm晶元的生產不僅需要生產工藝，還需要相應的裝置和材料。 中芯國際已經掌握了28nm的生產工藝，上海微電子有望研發出28nm光刻機，但生產28nm晶元還有很長的路要走。 幸運的是，國家半導體公司正在縮小這一差距。
據悉，在晶圓封裝領域，長電科技在4nm晶圓封裝技術方面取得了突破性進展此外，華為與合作夥伴還實現了14nm晶圓設計EDA工具的自主化中國電科旗下子公司在28nm離子注入機方面也取得了突破性進展微企5nm蝕刻機也研發成功，實現量產出貨南大光電在28nm-90nm光刻膠方面也取得了突破性進展，已被下游合作夥伴接受...
中芯國際掌握了28nm晶圓製造工藝，上海微電子先後開發了28nm光刻再4nm晶圓封裝、14nm EDA工具、28nm離子注入機、28nm光刻膠、5nm蝕刻機，中國半導體企業在28nm晶圓的設計、生產、封裝等方面取得了一系列技術突破。
基於這些技術突破，即使ASML的28nm光刻技術暫時無法實現，我們也不應該過分氣餒。
相信在中芯國際、華為等半導體廠商的帶領下，國內半導體企業將能夠實現28nm晶元的自主化，不再受阻。