ASML光刻機完結，外媒：彎道超車失敗，半導體格局即將改變。
隨著中美競爭的日趨激烈，國內網際網絡對晶元的重視程度逐漸提高，很多人也意識到了晶元的重要性。 事實上，隨著人工智慧、物聯網、新能源汽車等新興產業的快速發展，晶元已經成為更多這些領域"甜美而甜美"。
隨著國家對晶元的重視，佔光刻工藝需求20%以上的晶元生產環境的改善也開始引起國家的重視。 光刻技術不僅可以應用於晶元製造工藝，還可以應用於晶元封裝測試工藝，實現更高的晶元封裝測試效率。
目前，國內有許多世界知名的半導體裝置製造企業，如上海微電子、北方華龍、華微電子等，其中上海微電子在光刻技術方面發展非常迅速，已進入全球前十，基本僅次於荷蘭的ASML，以及日本的尼康、佳能等少數企業。
中國國產光刻機工藝已經達到90奈米，經過多次迭代，可以在65奈米工藝上生產。 此前，上海微電子也報道了28nm光刻工藝的突破，預計將於2024年底或2024年初交付中國市場。
在光刻機方面，荷蘭半導體裝置製造商ASML是行業的佼佼者，不僅是全球唯一一家可以提供EUV光刻機的公司，也是全球最大的光刻裝置製造商。
ASML工程師曾傲慢地表示，即使將光刻機的設計圖紙交給中國，中國也無法製造出先進的光刻機。 然而，前段時間，中國顯然不需要ASML的光刻圖紙來生產光刻機。
如今在光刻機領域處於領先地位的ASML，其實在開發過程中遇到了嚴重的困難，甚至瀕臨破產，但最終還是挺了過來。 基於此，不難看出，中國光刻機行業未來的發展未必能超越ASML等歐美企業。
為了制約中國晶元產業的發展，美國不僅多次修改晶元法規，限制先進晶元、技術和材料的出貨。 美國、日本和荷蘭還簽署了一項三方協議，以限制半導體裝置的運輸。 在美國的一再施壓和要求下，荷蘭終於宣布，從9月1日起限制半導體裝置的出貨。
然而，在荷蘭對半導體裝置的出口管制於9月1日生效的同一天，ASML公開表示，它已被批准出貨光刻機，並可能繼續出貨到2024年。 此外，從今年第二季度開始，ASML開始加速半導體裝置向中國市場的出貨。
根據ASML公布的財務資料，今年前三季度，ASML在中國市場的收入佔比分別為%和48%。 從這些資料中不難看出，與中國晶元公司相比，ASML似乎更專注於加速向中國市場交付裝置。
其實這是由於國內裝置廠商的快速發展，各半導體裝置廠商都完成了公升級換代，清華大學也提出"光刻廠"概念。 ASML開始擔心中國的光刻技術跟不上。 ASML在發展過程中多次遇到類似的情況，甚至一度瀕臨破產，相信ASML不想再試一次。
ASML成立於2024年，專業從事高階光刻生產，提供包括光刻、光刻模擬、光刻檢測在內的全方位解決方案，以及支援服務、零件等。
2024年，飛利浦光刻裝置開發團隊的幾位成員認為：為什麼不自己動手，那為什麼不自己動手呢？而且，光刻技術的未來非常光明。 於是，這些人離開了飛利浦，創立了ASML。
長期以來，ASML的業績並不好，技術水平落後於美國和日本的半導體裝置製造商，幾乎所有的光刻耗材都賣給了飛利浦，ASML甚至出現了很多財務問題。
ASML命運的轉折點始於2024年。 這一年，ASML推出了PAS5500系列光刻機，打破了美國和日本製造商的壟斷，逐步成為全球領先的光刻機製造商之一。
從2024年到2024年，ASML開始通過重大併購擴大和優化產品線，ASML進入了快速發展階段。 2024年，ASML完成了對矽谷集團（SVG）的收購，後者已經擁有成熟的157nm光學技術，通過收購SVG，ASML的光刻技術達到了世界領先水平。 通過收購SVG，ASML成為光刻技術的全球領導者。
ASML的技術水平開始迅速增長，甚至引發了行業的技術變革，2024年ASML推出了雙光刻機。
然而，儘管在此期間取得了增長，但ASML仍然面臨著尼康和佳能的日本光刻機"約束"，以及美國幾家半導體裝置公司的強大影響力。 當時，ASML甚至被尼康和佳能使用"打敗"，屢屢遭遇厄運，瀕臨破產。
但ASML再次崛起。 當時，日本尼康和佳能公司希望在未來光刻技術的發展中採用乾法光刻技術，業內大多認為ASML正在試驗濕法光刻技術，也就是台積電林本建前段時間提出的浸沒式光刻技術。
2024年，ASML推出了第一台浸沒式光刻機樣機，從此，浸沒式光刻機風靡光刻機市場，ASML藉此機會超越尼康、佳能等半導體裝置公司，成為行業領軍企業。
後來，英特爾等美國半導體公司組成了EUV聯盟，ASML是唯一一家非美國半導體公司。 在財團開發EUV光源技術後，ASML還開發了EUV光刻機，如今ASML是唯一一家可以提供EUV光刻機的公司。
以ASML為例，不難看出，在某些時候，很難為未來的增長選擇正確的關鍵路徑。