南韓公司看到了機會，並試圖進入中國市場，因為由於美國的限制，中國公司無法再從美國、日本或荷蘭公司獲得先進的晶元製造工具。
據南韓Theelec稱，南韓光學晶圓檢測裝置製造商Nextin正在擴大其在中國半導體市場的影響力。 據說Nextin已經與一位未公開的中國客戶簽署了一項價值70億韓元（539萬美元）的協議，以購買AEGIS 3機器。 該模型的檢測速度比AEGIS 2快30%，計算效能為147tflops。
Nextin不僅為SK海力士中國提供光學檢測工具，還為一些中國晶元製造公司提供光學檢測工具。 目前尚不清楚Nextin是否繼續在其運往中國的產品中使用美國衍生技術。
光學圖案晶圓缺陷檢測裝置分為明場和暗場兩大類，兩者的主要區別在於：明場裝置收集垂直反射在晶圓表面的光訊號來分析缺陷，而暗場裝置收集從晶圓表面散射回來的光訊號進行分析。 如果晶圓表面平整無缺陷，則明場器件反射回來的光是相對完整的入射光，而暗場器件的入射光是完全反射的，它接收到散射光訊號。 隨著裝置工業的不斷發展，明場和暗場的定義也在發生變化，現在明場一般是指在相鄰晶圓段中共用同一顯微鏡物鏡的照明光路和採集光路，而暗場是指照明光路和採集光路在物理空間上完全分離的事實。 由於垂直反射和散射光訊號的差異，明場器件比暗場器件具有更高的檢測靈敏度，但明場器件的掃瞄速度也較慢。
Nextin 的 AEGIS 裝置可以檢測 200 公釐和 300 公釐晶圓，並且可以在明場和暗場模式下執行。 明場法使用反射光來發現小至 15 奈米的缺陷。 同時，依靠散射光的暗場方法可以檢測出高達30奈米的缺陷。
隨著製造工藝的進步，測量裝置的靈敏度、準確度、生產率和反應速度等效能指標不斷提高。 相同大小的缺陷在成熟工藝中是非致命的，但在先進工藝中可能是導致電路故障的致命缺陷，這對定量檢測裝置的靈敏度提出了更高的要求。 一些特殊的積體電路結構，如超薄膜（厚度小於10埃）、極高縱橫比、無損圖形等結構，也對測量裝置的3D成像能力、多次測量的一致性等指標提出了特殊要求。 按照今天的標準，Nextin的AEGIS工具解像度聽起來並不是特別高，但15nm的缺陷仍然會造成嚴重破壞或損害14nm或7nm生產節點中結構的執行，因此其檢測至關重要。 光學檢測工具比電子束或多電子束工具更快，這些工具在今天被廣泛使用。 客戶不僅是晶圓廠，更是儲存產品製造廠。
2024年全球檢測裝置市場規模超過800億元，2024年中國國內市場規模約為176億元。 大規模檢測裝置市場呈現高度壟斷格局，行業前5名分別為科磊、應用材料、日立、特利光電創新科技。 市場占有率為508%，11.5%，8.9%，5.6%，5.6%，行業前3名佔據70%以上的市場份額。 整個市場由美國和日本公司控制。
測量裝置企業市場占有率，**彩通**。
科磊是全球最大的數量檢測裝置製造商。 2024年營業收入為9212億美元，同比增長3314%；其中 19 個10億美元，佔2074%；裝置收入 731億美元，佔7926%。公司2024年研發支出達到11項5億美元。 其產品種類豐富，幾乎涵蓋了檢測裝置的所有子類別。 在巨集觀晶形檢測領域，無圖案缺陷檢測、圖案缺陷檢測、掩模檢測、雕刻機誤差測量等。 在 2022 財年，科磊有 266億美元的收入來自中國大陸，佔2888%；來自台灣的收入是2528億美元;佔 2745%。
科磊公司數量檢測產品種類，**彩通**。
測量檢測裝置難度大，2024年測量檢測裝置國產化率僅為2%。 在光學量檢測裝置中，圖案檢測裝置的比例約為31%;非圖案檢測裝置約佔10%，掩膜板檢測裝置約佔13%，光學按鍵尺寸測量約佔10%，覆蓋誤差測量約佔7%，薄膜測量約佔3%。 中科飛測是中國具有代表性的光檢測公司之一，其覆蓋的光量檢測領域範圍很廣。 該公司的產品主要應用於前端晶圓製造和先進封裝，分為檢測裝置和測量裝置兩大類。 檢測裝置包括無圖案晶圓缺陷檢測裝置和圖案化晶圓缺陷檢測裝置測量裝置包括三維形貌測量裝置、膜厚測量裝置、覆蓋測量裝置等。 目前，該裝置產品已應用於國內28nm及以上的積體電路生產線。
從資料來看，2024年中國大陸光半導體測試裝置進口額為3314 億美元 （220.0.）56億元）。同期，中國大陸電子顯微鏡和衍射儀進口額為1226億美元（80億美元）21億元，其中一部分是用於生產積體電路的電子顯微鏡和衍射儀）。面對如此大的市場機會，誰能填補政策限制導致的空置市場？
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