在面臨美國的多輪制裁後，中國企業意識到必須自力更生，加快光刻機技術的自主研發。 在短短幾年內，中國科學家以堅韌和創新取得了長足的進步。 例如，哈爾濱工業大學EUV的三大核心技術可以顯著提高光刻機的製造能力，上海微電子已成功研發出28nm光刻機。 這說明我國光刻機技術正在迅速成熟，並逐步接近國際先進水平。 通過自主創新和國家的大力支援，中國正在跨過乙個又乙個技術門檻，提高核心器件的自主可控能力。
在光刻機技術取得重大突破的同時，華為麒麟晶元也實現了量產，並已成功應用於Mate60系列。 麒麟晶元的量產得到了國產光刻機的支撐，這意味著中國基本實現了自主可控的晶元製造。 過去，中國由於缺乏自己的光刻機而無法自給自足。 今天，中國已經解決了這個問題，打破了晶元領域的技術壁壘。 麒麟晶元的成功誕生，預示著中國晶元產業迎來了新的春天。
作為全球排名第一的光刻機製造商，荷蘭ASML在看到中國在光刻機和晶元領域的重大進步後，不禁感到震驚。 他們擔心，一旦中國實現自治，它可能會完全失去其巨大的中國市場。 因此，ASML加快了向中國客戶交付光刻機的速度，希望在中國實現自動駕駛之前盡可能多地獲利。 不過，這並沒有改變中國晶元產業已經完成轉型的大趨勢。
近日，華為、中科院、上海微電子聯合公布光刻機核心技術專利。 這表明，中國企業正在通過整合創新、資源共享等方式，提公升光刻機和晶元技術的自主能力。 華為的5G通訊技術、中科院的基礎科研實力、上海微電子股份有限公司的積體電路經驗，“我們完全有能力在光刻機領域實現突破。” 企業與科研院所之間的這種密切合作，是我國科技進步的重要支撐。 在各方的共同努力下，中國有望在不久的將來突破光刻機技術的外部封鎖。 雖然最先進的EUV技術仍然存在差距，但這只是時間問題。 中國擁有世界頂尖的科研人才和巨大的市場需求，完全有能力趕上當前的技術瓶頸。 歷史潮流洶湧澎湃，中國晶元產業正在加速成為全球重要力量。
在國家的大力支援下，中國企業正在通過深度合作和自主創新，提公升光刻機的技術能力。 這將進一步夯實晶元產業的自主基礎。 可以預見，我國很快將能夠完全自主掌握光刻機核心技術，實現晶元產業自給自足。 屆時，中國將真正掌控半導體產業鏈的“糧倉”，在更多高科技領域實現彎道超車。 中國的科技進步和創新能力將成為世界的榜樣和引領者。 中國晶元產業的崛起，將為國民經濟的發展提供有力支撐，也將為全球科技創新帶來新的挑戰和機遇。