ASML承諾不負眾望！ 2024年DUV光刻機將不缺！
我們知道 2024 年才剛剛開始，ASML 已經宣布取消 NXT2050i 和 NXT 2100 I 光刻機的許可證。
因此，很多人認為中國大陸沒有兩台光刻機。
難怪美國於 2019 年開始對中國實施禁運，禁止 EUV 光刻，並於 2023 年禁止深紫外光刻。
據業內專家介紹，以193奈米為光源的浸沒式光刻，由於水的折射，光源波長可達134奈米，這使得通過**等多種工藝生產7奈米和5奈米晶元成為可能。
目前，國內所有的光刻機都採用90nm工藝，而我們的技術已經達到了7nm以上，所以DUV光刻機是必不可少的。
但即使 ASML 在 2023 年有所改善，我們也不會在 2024 年之前出現晶元短缺。
其中之一是現已撤銷的許可證，該許可證原定於 2023 年 9 月 1 日撤銷，但由於 ASML 與不同個人之間的協調而被推遲了四分之一年。
其次，這次只有兩個型號 - NXT：2050 I和NXT：2000 I和NXT：1980 DI被取消。
從**可以看出，這四台光刻機的解像度相同，但產能卻相差甚遠，低至7奈米，高至5奈米。
第三，ASML非常誠懇，積極配合中國大陸使用者，爭取在禁令實施前"搶"到光刻機。
2022年，中國從ASML購買了約100臺光刻系統，總價值為21億歐元。
今年1月至11月，中國從ASML購買了200多台光刻機，總價值為500億元，是去年的三倍。
ASML還表示，它將在2023年之前向中國客戶供貨，這表明ASML已將其大部分光刻產能轉移給中國客戶。
畢竟光刻機是世界上稀缺的商品，各大代工廠都在爭先恐後地搶購，在這種情況下，ASML對中國來說可能並不容易大規模生產。
因此，在ASML的努力下，到2024年，我們都不會出現DUV光刻機的短缺，而且我們已經購買了一些高階裝置，低端裝置將持續很多年。
更重要的是，考慮到晶元的發展，"工藝"不可能一直這樣做; 28 nm 後，線寬將停止增加，5 nm 以下的最小線寬不是 5 nm，而是通過結構和工藝改進實現的"與5nm相同的能效"。
如果我們改進設計、結構和封裝，我們將能夠使用深紫外光刻技術生產出與3nm工藝相媲美的晶元，從長遠來看，我們不必急於求成。
此外，隨著技術的進步，光刻不再是唯一的方法，奈米印刷、電子束光刻和數字減法都達到了新的水平，因此中國可能不得不因為這一禁令而改變其戰略。