目前，智慧型手機技術的飛速發展已經引起了全球性的現象科技特別是圈子晶元技術進步。 而面對激烈的競爭和外部限制，國內科技實力的提公升尤為迫切。 所謂面對困難，不僅是要趕上技術發展的步伐，更要危急實現技術領域的自主創新，擺脫外部約束，打造中國科技新的篇章。 雖然人們很擔心晶元在設計和製造方面取得了進步，但仍有一些支援晶元製造危急因素被忽視了。 這些因素包括：晶元製造業支援的技術和材料在整個價值鏈中發揮著至關重要的作用。
在晶元製造工藝，除晶元就其本身而言，支援材料和技術的質量也至關重要。 例如，高純度矽片對晶元效能至關重要，實現這種高純度是一項技術挑戰。 儘管在某些純度等級的矽晶圓生產方面取得了一些進展，但仍有必要生產出更高的效能晶元我們仍然面臨的極高純度矽片技術壁壘。另外光刻是的晶元它離不開製造業，可以在矽晶圓上精確地繪製複雜的電路圖案。 然而，國內高階光刻 膠產能仍不足以滿足需求，大部分仍需進口。 這種依賴性問題限制了中國在高階市場的地位晶元製造業領域的發展。
擴充套件：進入晶元在製造領域取得了突破，除了重點晶元除了設計和製造方面的技術創新外，還需要加強危急以材料和技術為支撐的研發。 高純度矽片為：晶元製造這對的基本材料，其製備過程晶元效能具有至關重要的影響。 在我國生產一定純度水平矽片的基礎上，如何突破純度要求更高的技術難題，成為亟待克服的問題。 另外光刻是的晶元它是製造中不可或缺的工藝，主要是通過將電路圖案投射到矽晶圓上來實現的晶元製造業。 現階段，國內高階光刻 膠**仍無法滿足市場需求，這也將成為國內晶元提高製造能力危急瓶頸之一。
除了材料和危急獨立製造化學品和國產生產工具的能力也是判斷乙個國家半導體產業獨立性的重要標準。 光刻機如晶元作為生產的核心裝置之一，其精度要求極高，但目前已處於世界高階水平光刻機市場幾乎被少數國家壟斷，這對於實現至關重要晶元工業自主化是一項重大挑戰。 國內自主研發生產高階光刻機祈使的。
擴大：晶元製造過程中所需的生產裝置也是影響工業自主化水平的重要因素。 自光刻機例如，作為最核心、精度最高的裝置之一，在國際市場上佔據主導地位。 然而，目前全球高階光刻機市場情況幾乎被少數國家壟斷，這使得它中國晶元該行業正面臨嚴峻的挑戰。 思考晶元製造全產業鏈自主，國內研發製造高精度光刻機這已成為當務之急。
在當前全球科技在比賽中，中國在晶元該領域的自主發展面臨諸多挑戰和制約因素，但也具有巨大的發展潛力和機遇。 有待實現晶元除了關注行業的自主性晶元除了提高設計製造技術外，還要進一步加大材料、技術支撐和生產裝備的研發投入，構建完整的產業鏈，加強國際合作，取得突破技術壁壘。只有通過不斷的努力和創新，中國晶元技術可以逆勢而上，實現真正的自主創新和領先優勢。