ASML推出全球最先進的晶元製造神器，High-NA EUV光刻機首次亮相。
也許你還在擔心電池不夠持久，遊戲卡住了，智慧型家居不夠智慧型，但你有沒有想過呢？ 上述問題的根本原因是晶元本身的效能。 積體電路作為當今科學技術的中心，其效能直接影響著整個系統的執行速度、儲存容量和能耗。 製造晶元的過程決定了它的質量，它需要在可以容納更多的電晶體上雕刻更多的線條。
然而，在積體電路製造過程中，傳統的光刻方法在發展中面臨“瓶頸”。 光刻是指將一束光投射到薄膜上，然後通過薄膜上的圖案將光束投射到薄膜上，從而在薄膜上產生一條直線。 然而，用於光刻的深度紫外（193 nm）不再適用於7 nm及以下的工藝要求。
為了打破這一瓶頸，全球半導體生產巨頭阿斯麥（ASML）最近發布了其最新的EUV光刻機。 這艘船的價格為 35億歐元（272億元）是一架重達兩架空客A320飛機的巨型飛機，被ASML聲稱是AI浪潮中晶元廠商的“必備品”。
ASML自主研發的EUV光刻技術，工作波長僅為135 nm，僅 14 nm，可蝕刻 8 nm，僅 1 nm七分之一。 電線越細，可以容納的電晶體就越多，從而實現更高的計算速度和更大的儲存容量，這對於 AI 工作負載來說是必要的。
EUV光刻工藝目前被英特爾、三星、台積電等全球各大半導體廠商採用，主要應用於7奈米、5奈米甚至3奈米以上的高階積體電路。 該技術不僅可以為智慧型手機、遊戲機、智慧型手錶等各種電氣產品提供強大的效能支援，還可以為智慧型汽車、增強現實、人工智慧等諸多領域開闢新的可能性。
在上個月的一次採訪中，ASML首席執行官Pete Winnick表示：“人工智慧需要強大的計算能力和資料儲存。 我認為如果沒有ASML，沒有我們的技術，這是不可能做到的。 這對我們的業務來說是乙個很大的推動力。 ”
據介紹，ASML已收到多家廠商的訂單，其中首批高數值孔徑極紫外光刻裝置於去年年底抵達英特爾位於奧勒岡州的D1X工廠，預計英特爾將於2025年底投入量產。 ASML發言人莫妮克·莫爾斯（Monique Morse）在荷蘭費爾霍芬舉行的新聞發布會上表示，該裝置花了六個多月的時間才完成，總共需要250個貨櫃和250名工程師才能完成。
極紫外光刻的出現，對於整個半導體行業乃至整個人工智慧行業來說，都將是一場巨大的變革。 為人類帶來更多智慧型、高效、節能的新技術，讓人類生活更美好。