半導體生產中使用的超純水裝置的工藝組成。
在半導體生產中，超純水裝置是必不可少的。 它為生產線提供高純水，以滿足各種工藝需求。 超純水裝置的工藝組成主要包括以下幾個部分：
1.原水處理。
原水處理是超純水裝置工藝的第一步，主要目的是去除原水中的雜質和鹽分，保證所生產的超純水的質量。 此步驟通常包括砂濾、活性炭過濾和安全過濾器等過程。 砂濾器可以去除原水中的大顆粒雜質和懸浮物，活性炭過濾器可以吸附水中的有機物、重金屬等有害物質，安全過濾器可以進一步去除水中的小雜質和顆粒，保證進入超純水裝置的原水質量。
2.反滲透技術。
反滲透技術是超純水裝置的核心工藝之一。 它使用半透膜，使水在壓力下通過膜過濾，從而去除水中的離子、有機物、細菌和微生物等雜質。 反滲透技術可有效去除水中95%以上的離子和有機物，為後續淨化過程提供優質的給水。
3.離子交換樹脂。
離子交換樹脂是超純水裝置的重要組成部分，其主要作用是去除水中殘留的離子。 離子交換樹脂是一種特殊型別的樹脂，當水通過時，它會吸附和去除離子，使水質達到超純水平。 離子交換樹脂的再生過程是通過酸或鹼溶液再生，以恢復樹脂吸附離子的能力。
4.膜蒸餾技術。
膜蒸餾技術是超純水裝置中的一種新工藝，其主要作用是進一步減少水中殘留的離子和有機物。 膜蒸餾技術使用疏水膜進行蒸餾，讓水分子通過膜並留下雜質，從而產生更高純度的超純水。 膜式蒸餾技術具有效率高、成本低等優點，已成為超純水裝置的重要組成部分。
第五，後處理過程。
後處理過程是超純水廠的最後一步，主要目的是進一步提高水的純度。 這一步通常包括混床、EDI等技術。 混合床是通過將陰離子和陽離子交換樹脂混合在一起，通過離子交換進一步去除水中的殘留離子而製成的。 EDI利用電場通過膜對水分子進行脫鹽和滅菌，以達到超純水平。
總之，半導體生產中使用的超純水裝置需要多個工藝元件，每個元件都有其獨特的作用和功能。 從原水處理、反滲透技術、離子交換樹脂、膜蒸餾技術到後處理工藝，每個環節都需要嚴格的質量控制和技術支援，以確保所生產的超純水的質量和穩定性。 這些工藝共同生產超純水，提供半導體生產所需的優質水。