2023年12月，中國大陸從荷蘭出發進口光刻裝置價值達到11億美元，同比增長1000%。 這高於前幾個月的10月和11月進口該數量表明，中國對光刻裝置的需求量很大。 這讓一些網友質疑為什麼他們人數眾多進口光刻機？是因為國產嗎光刻機是沒有希望嗎？ 然而，現實是國內的光刻機滿足需求仍有侷限性。
國內光刻機主要由上海微電子6生產00系列光刻機主要地。 本系列光刻機它可以滿足90nm、110nm和280nm的光刻需求，也可以通過多**技術製造55nm晶元。 然而，與荷蘭相比asml公司光刻機國內光刻機在準確性、效能和可靠性方面仍然存在差距。 對於一些工藝要求較高的晶元場景，如：智慧型手機、電腦CPU和AI晶元，國產光刻機無法滿足其精密製造的需要。
asml是一家荷蘭企業，擁有全球85%的股份光刻機市場占有率和提供多種型別光刻機包括：浸沒式DUV光刻機跟EUV光刻機。荷蘭光刻機技術先進，可製造7nm以下晶元，遠超國產晶元光刻機工藝能力。 因此，為了滿足高階晶元的需求，擴大產能，減少對數進口對晶元的依賴，中國大陸選擇很多進口荷蘭的光刻裝置。
然而，國內光刻機促使中國加大本土化力度光刻機研發工作。 通過與清華大學的合作，華為以及中國的其他合作夥伴光刻機製造企業不斷提高自身技術實力，加快發展高精度、高效能光刻機。據公開資料顯示，中國已經處於28nm光刻機研發取得重大突破，預計將於2023年開始交付。 此外，中國也在發展研發EUV光刻機方面加大了努力，做出了讓步asml總統讚揚了結果。 國內光刻機這一突破不僅有助於滿足中國自身的晶元製造需求，還將減少晶元數量進口對裝置的依賴性提高了晶元製造的自主性。
2023年6月30日，荷蘭發布新的先進半導體裝置出口管制條例，規定未經許可禁止出口的部分浸沒式光刻機規定。 這一限制將影響進入中國14nm以下邏輯晶元，高階DRAM晶元，以及超過128層的Nandflash開發。 這對中國來說是很高的科技由於高科技，該領域是乙個重大挑戰科技它在全球競爭中發揮著重要作用。
一些分析人士認為，光刻機對中國的限制實際上是針對中國的科技巨人，尤其是華為制裁。 然而，無論是否有這樣的制裁，限制的目的是限制中國的高科技科技發展。 在此背景下，中國必須加大自主研發力度，促進國內生產光刻機以應對國際不確定性和外部制約因素。
儘管豐富進口光刻裝置的情況可能會給人一種馴化的感覺光刻機前景不佳的錯覺，但實際上是國內的光刻機研發進展迅速，取得了顯著成效。 中國光刻機在製造領域取得了突破，在高精度、高效能方面取得了突破光刻機研發潛力巨大。
中方對此也十分重視光刻機研發和產業化，通過推廣科技創新、提供政策支援等方式，努力提高國內生產水平光刻機技術水平。 目前，中國已建立了一批具有國際競爭力的企業光刻機製造企業，並加大了相關技術人員的培訓和引進力度。
此外，光刻本身也在不斷發展，EUV等下一代光刻技術在商業應用上的成功有望進一步推動中國的發展光刻機發展。
綜上所述，雖然國內光刻機在某些方面與進口光刻機差距依然存在，但中國正在努力提高技術實力，加快研發和產業化程序。 國內光刻機仍有很大的發展潛力，有望滿足中國未來對晶元製造日益增長的需求。 同時，中國也應加大力度光刻機研發投入，提公升國內晶元製造自主能力，減少對進口裝置的依賴性實現了晶元製造的完全自主性和可控性。