半導體裝備作為積體電路晶元製造的核心技術，對晶元產業鏈的執行具有決定性的影響。 毫不誇張地說，如果我們能完全掌握這項技術，就可以大大提高晶元製造的效率和質量。
全球領先的光刻機製造商ASML推出了新一代高階NAD EUV光刻機，價格高達27億元，是2nm晶元製造過程中不可或缺的裝置。
相比之下，中國本土半導體裝置製造商也呈現上公升趨勢。 以北方華創公司為例，他們正全力以赴開展研發工作，力爭突破困境，這讓外媒驚呼：“晶元行業出現了令人驚訝的逆轉！ ”
半導體裝置市場的競爭格局如何？
不可否認，荷蘭的ASML在全球光刻機製造業中佔據領先地位，其先進的EUV技術被認為是當今最前沿的半導體製造技術之一。 世界上絕大多數晶元製造商都選擇使用ASML的光刻機。 此外，英特爾的子公司應用材料公司和日本的東京電子公司是蝕刻裝置領域的兩家世界領先公司，提供許多不同型別的工藝裝置，包括蝕刻機。
值得注意的是，應用材料公司是全球最大的半導體裝置製造商之一，他們還為客戶提供廣泛的工藝裝置，包括蝕刻機; 專注於蝕刻裝置的研發和生產的東京電子，其相關產品在世界範圍內得到了廣泛的認可和青睞。
以上只是半導體裝置行業的冰山一角，全球前10大半導體裝置製造商幾乎都來自美國、日本和荷蘭等國家。 三國達成的三方合作協議，對主要半導體裝置實施出口管制措施，使得部分地區難以採購高階工藝光刻機。 然而，這種情況對整個半導體行業來說並不是乙個好兆頭。
當外部因素擾亂市場秩序時，行業的生態環境必然會遭受重大損失。 為了應對這些挑戰，我們需要做出相應的反應。 具體來說，有兩種方法可以考慮：一種是讓規則執行者快速約束自己的不當行為，另一種是依靠自身的力量實現突破。 在後者的框架下，許多中國本土裝置製造商開始積極參與行動，並取得了顯著的成效。
中國國產半導體裝備發展進展怎麼樣？
眾所周知，美國、日本、荷蘭等國家在半導體裝備領域始終保持著較強的競爭力，不斷創新推出具有一流技術的新一代半導體裝備。 然而，中國製造商並沒有因此而停滯不前，而是紛紛效仿，積極追趕。
根據國際半導體行業協會的資料，預計到2023年，中國半導體裝置總銷售額將超過驚人的300億美元，創下新紀錄。
在這些巨大的裝置總銷售額中，中國本土製造商生產的裝置佔據了相當大的份額。 據統計，過去一年，有近900臺裝置中標當地中標，其中高達47%是國內自主研發和生產的裝置。 特別是以NAURA為首的國內企業的發展成果令人矚目。
據了解，在今年即將公布的2023年全球半導體裝置企業營收排行榜中，我們的NAURA成功進入全球前十，位列全球第八。 這無疑標誌著中國企業首次躋身世界半導體裝置製造業前十，成為中國半導體裝置發展的重要里程碑。
海外**有報道稱，全球半導體行業形勢已開始出現逆轉跡象，中國廠商在半導體裝置領域的影響力正在逐步提公升。 如果你能掌握半導體裝置的關鍵核心技術，無疑會大大提高晶元製造的效率和質量，進一步提公升你在市場上的競爭力。
雖然光刻機等高階半導體裝置仍牢牢掌握在西方國家手中，但我們的中國製造商在蝕刻、沉積、清洗、離子注入等核心工藝上與國外巨頭的競爭已經呈現出相對均衡的競爭。
2月** 動態激勵計畫
在蝕刻機領域，上海AMEC已經能夠提供相應的5nm工藝產品，並已成功進入台積電的產線。 面對各種外部制約因素，激發了中國自主創新的決心和毅力。