EUV光刻機組裝難度大，挑戰技術極限！

"EUV光刻機難以組裝，挑戰技術極限"！

大家都知道，7nm級EUV光刻機是唯一可以生產7nm以上晶元的半導體器件，不允許銷往中國。

因此，中國很難實現7nm以下的工藝，要麼中國可以生產EUV光刻機，要麼就會另闢蹊徑，放棄光刻技術。

這麼多人認為中國不是最擅長抄襲的？ 然後把EUV光刻機拆開，按原樣做乙個，不是嗎？

其實光刻機並不是那麼容易製造的，網上有一篇文章說，ASML的工程師告訴中國工程師，就算他們有光刻機的設計圖紙，也做不到。

這聽起來可能很離譜，但事實可能是這樣，即使我們拿到了EUV光刻機的藍圖，我們也未必能生產出來。

首先，極紫外光刻技術極其繁瑣，全球有5000多家廠家，共計45萬套零件。

這45萬個零件，按最小的不動零件，也就是300多萬個，其實是可以分解的。 而且大部分關鍵部件是無法模仿的，世界上只有一家公司可以生產。

此外，他們擁有ASML的專利，我們怎麼能複製蔡司鏡頭裝置？ 5000**鏈條，300多個零件，我們自己生產，有什麼問題嗎？ 這就是為什麼即使他們有圖紙，他們也做不到。

其次，EUV光刻機也難度很大，安裝除錯需要花費大量的時間和精力，現在市場上最大的EUV光刻機重達150萬磅，相當於15萬公斤。

ASML沒有將其分成幾部分，而是將其分成幾個部分，每個部分都裝入250個貨櫃中。

交付到指定地點後，ASML將安排250名裝配工程師過來，在180天內完成裝置的安裝除錯，這是非常高的技術和經驗。

事實上，即使ASML真的把藍圖交給了他們，他們也無法在短時間內做出合適的零件。 此外，還涉及很多技術問題。

所以，EUV光刻機的發展不簡單，我們一定不能毀了我們的聲譽，我們一定要有信心，但我們也要知道，這不是一件簡單的事情，我們必須有充分的意識，做好戰鬥的心理準備。