這一突破無疑給全球晶元行業帶來了翻天覆地的變化，預示著西方科技霸權的終結已經不遠了。
目前正處於風口浪尖，如果擁有光刻機領域的這五大巨頭，一定要緊緊抓住，因為說不定就是下乙個漲幅高達200%的張江高科。
近日，清華大學半導體研究所宣布，已成功研發出功率高達10千瓦的EUV光源，是目前主流EUV光源的40倍，可支援數十台光刻機同時執行。
這一重大突破標誌著我國製造下一代EUV光刻機的核心技術已經掌握，有望徹底擺脫OM在高階光刻機領域的技術壟斷。 值得一提的是，隨著這項技術的成熟，中國將成為世界上唯一擁有完整光刻機產業鏈的國家。
就連光刻機領域的巨頭ASML也不得不承認，只要中國3 5年，我們完全可以獨立生產先進的光刻機。 不難想象，中國更先進的光刻機的出現，不僅會再次展示ZG的速度，還會徹底顛覆全球晶元產業的格局。
為了幫助您抓住這一歷史性機遇，我們經過深入研究和篩選，發現了光刻機領域的五大王者。 這些公司不僅研發實力雄厚，而且在光刻機核心技術和零部件自主製造方面也取得了重大突破。
第乙個是Han's Laser公司在光學機械研發領域取得了重大進展，在核心技術和零部件自主製造方面也取得了重大突破。
二是藍盈裝置，其光刻機產品廣泛應用於半導體製造領域，實力不容小覷。
然後是東方嘉盛，該公司專業從事高階光刻機裝置的研發和生產，並已在全球半導體市場站穩腳跟。
此外，泰晶科技也值得關注公司深耕光刻技術十餘年，是國內首家實現MEMS光刻工藝產業化應用的企業。
最後乙個亮點十足不僅如此上海微電子第一大股東在半導體應用領域，具備為光刻機提供大孔徑光學透鏡的能力。 目前，其股價它只有 10 多件，主力最近進入了新勢力超過700萬股**顯然，洗牌已經結束，隨時可能飆公升。
你知道是哪乙個嗎？
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