尼康和佳能中國企業的大訂單是否導致ASML被美國“慘”？
眾所周知，ASML是國際半導體製造裝置市場上最有意思的東西，因為它可以實現EUV光刻機的全球壟斷，而且市場占有率不錯。
不過，由於美國、日本和荷蘭的聯盟，ASML將無法很快向中國市場供應DUV光刻機，但也有訊息稱，日本公司尼康和佳能已經向中國公司下了大訂單。
這要從20世紀末說起，當時ASML還不是世界龍頭，而是日本的尼康和佳能，按照目前的排名，尼康僅次於ASML。
20世紀末，日本的尼康和佳能憑藉其卓越的自主半導體技術成為市場的焦點，其水平不亞於前段時間的ASML。
尼康和佳能在半導體製造裝置合計的份額一度超過80%，甚至比前段時間的ASML還要驚人。
當時，DUV光刻機市場仍是焦點，波長為193nm，能夠批量生產工藝為65nm或更低工藝的晶元，但最低精度低於7nm。
隨著精度的控制和優化，尼康和佳能開始向157nm波長方向發展，追求更高的精度和更先進的工藝。
當時，ASML前段時間幾乎等同於尼康和佳能，屬於國家在發展過程中，市場占有率不如尼康和佳能，因此在研發方向上的資金投入沒有可比性。
但通過一次"冒險"ASML帶來了一種逆轉，即ARF浸沒式光刻的誕生，這是台積電首席技術官林本健提出的乙個概念。
其原理是以水為中間介質，產生折射的特徵效應，將原來的193nm波長改為134nm的波長效應，以達到更高的精度效果。
隨著ARF浸沒式光刻機的問世，ASML的地位有了飛躍，超越了尼康和佳能，成為全球市場第一大半導體製造裝置製造商。
然而，最重要的還不是這個，而是前美國通過自己"方法"壓制尼康和佳能，並利用"美日半導體協議"影響尼康，尤其是與ASML強行共享技術，幾乎可以說ASML是被前美國單槍匹馬撐起來的。
後來，前美國也與IBM、英特爾等廠商聯手"EUVLLC聯盟"尼康和日本佳能不在參與公司之列，該項目的最終結果是帶領ASML成為全球唯一的EUV光刻機製造商。
當然，由於EUVLLC聯盟是原來的美國組織，加上很多美國公司的參與，ASML雖然現在可以實現EUV光刻機的全球壟斷，但也受到原有美國的限制。
因此，ASML切斷了EUV光刻機在中國市場，只能被迫接受老美的要求，損失了大量的營收和訂單。
而且由於尼康和佳能沒有參與EUVLLC聯盟，他們選擇通過自己的努力來取得更好的效果和技術，實現了精度高達7nm的ARF浸沒式光刻和5nm級別的奈米壓印光刻。
目前，尼康和佳能已經向中國公司下了大訂單，希望獲得7nmDUV光刻工藝，讓兩家大公司獲得不小的收入，但ASML的EUV光刻機還沒有被授權從曾經的美國野獸窩出貨！
不幸的是，隨著美國、日本和荷蘭敲定聯盟協議，ASML和尼康或佳能都無法****DUV光刻機。
這意味著，我國半導體製造裝備仍需繼續自主研發和推廣，只有實現自給自足，才能真正避免"卡脖子"！
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