緊湊的台式設計和簡單的觸控螢幕操作使該系統成為任何研究奈米顆粒應用的實驗室的理想選擇。
真空沉積工藝產生碳氫化合物或其他汙染物的超純奈米顆粒，這通常困擾著化學技術。 奈米顆粒塗層直接沉積在基材上，並在典型的 30 分鐘迴圈時間後即可進行分析WU需要進一步的乾燥或純化步驟。
該系統在真空中產生超純和單分散奈米顆粒，然後將其直接沉積到目標基質上。 NL50避免了使用溶液和粉末奈米顆粒時面臨的許多問題。
該系統可以在幾分鐘內將奈米顆粒沉積到任何固體基材上。 Zui常用材料的簡單配方使研究人員能夠將暴露的奈米顆粒（如AG或AU）沉積到其基質上，然後準備它們與所需的蛋白質或抗體進行直接功能化。 該系統利用一種稱為終止氣體聚集的技術在真空中產生奈米顆粒。
為什麼選擇這種NL50奈米顆粒沉積系統？
以克為單位合成的化學合成奈米粒子已經問世，那麼為什麼要投資裝置來沉積真空相奈米粒子呢？該系統中產生的奈米顆粒是超純的，不含表面活性劑或配體，並且在沉積後立即功能化，需要漫長而複雜的多步驟化學純化過程。 奈米顆粒也是單分散的，因此避免了與團聚相關的問題。 沉積密度的實時控制確保了從單分散顆粒到 3D 多孔塗層的廣泛應用中的可重複結果。 有了這項技術，奈米材料的轉換也非常快。 與可能需要數月時間的化學合成開發不同，靶材可以在幾分鐘內更換，以沉積各種常見的金屬或合金。 直接沉積在基板上意味著更少的浪費，因為只需要按需製備奈米顆粒。
一系列純奈米顆粒和合金奈米顆粒可以沉積在客戶的樣品上。
沉積過程在真空中進行，以確保受控的WU汙染過程。
我們可以對奈米顆粒大小和面積覆蓋率進行出色的控制。
奈米顆粒薄膜的孔隙率可以優化，以滿足客戶的需求。
我們還可以為某些材料提供一些標準的演示樣品。
該奈米顆粒沉積系統產生的奈米顆粒是通過磁控濺射產生的，使用少量的氬等離子體生成所需材料的原子。
然後這些原子在很短的時間內（<1秒）被加熱並形成奈米顆粒。
奈米顆粒通過乙個小孔注入沉積室並注入樣品上。
使用者可以通過調整等離子體功率和氬氣流量來改變大約 2-20 nm 範圍內的尺寸（取決於材料）。
使用石英晶體監視器 （QCM） 進行實時沉積控制，可對從亞整體覆蓋層到多孔 3D 結構的表面載荷進行精確且可重複的控制。 沉積時間通常為幾分鐘。 沉積速率範圍為 10-50 ng cm2s