ASML正式遵守半導體出口管制，晶元對外援助全面暫停。
近年來，我國半導體產業發展迅速，各個領域都取得了技術進步。 例如，龍芯中科發布了龍芯3A6000晶元，在整體效能上接近英特爾第10代酷睿晶元。 例如，哈爾濱工業大學（HIT）團隊研發的超高速精密雷射干涉儀，可以為28nm光刻機的開發提供技術支援。
在這些技術進步中，華為是主要的存在。 從5nm麒麟9000量產到14nm EDA工具研發成功，華為一直引領著中國半導體技術的發展。
不幸的是，由於華為等許多國內公司都為半導體技術的進步做出了貢獻，前美國擔心這些公司會威脅到其霸權。 為此，前美國召集了一批走狗，打壓華為等國內一些公司。
在前美國經過六輪打壓後，華為自研的麒麟晶元沒有代工廠，無法使用先進的EDA工具，購買的手機晶元不支援5G網路。
幸運的是，華為深厚的技術積累、充裕的現金流、廣泛的業務範圍和龐大的消費者基礎並沒有成為前美國打壓的目標。 相反，華為2024年的營業收入突破6300億元，仍是中國最大的民營企業。
當然，華為只是被前美國打壓的公司之一，華為的綜合實力很強，自然可以抵擋住前美國的打壓，但其他公司面對前美國的打壓卻很弱。
據悉，在前美國打壓的眾多企業中，中芯國際很可能是受影響最大的企業之一。 2024年，中芯國際從荷蘭ASML購買了一台EUV光刻機。 由於前美國國家的阻撓，ASML限制了這款頂級EUV光刻機的出貨。 當時，ASML的中高階DUV光刻機仍能正常出貨。
2023 年 2 月，美國將日本和荷蘭拉進來"聯盟"，從而限制了中國企業獲得高階DUV光刻機。
美國為什麼要撤出日本和荷蘭這兩個國家？據介紹，荷蘭ASML公司是全球唯一一家可以生產EVU光刻機的廠家，但也有一些廠家可以生產先進的DUV光刻機。 日本的尼康和佳能在14nm-45nm的DUV光刻機市場也是小試。
換言之，如果中國企業想要獲得先進的DUV裝置，尼康、佳能和ASML都不能忽視它們。
不久前，日本正式啟動了23項半導體裝置出口管制，其中也包括14nm工藝光刻機。 此次出口管制將於7月23日，即本月23日正式實施。 屆時，尼康、佳能等其他公司將難以獲得高階光刻裝置，難度將大大增加。
雖然日本有關部門表示，出口管制不針對第三方，但所有企業只要獲得授權，都可以獲得高階光刻機。 不過，從日本此前的舉動來看，中國企業很可能無法獲得14nm中高階光刻機的出口許可證。
而在6月底，荷蘭當局也正式禁止半導體裝置出口。 根據禁令，荷蘭光刻機製造商將對14nm至45nm的中高階DUV裝置實施出口管制。 與日本的出口管制一樣，荷蘭的出口管制不針對第三方，但希望獲得14nm-45nmDUV光刻機的公司仍必須獲得荷蘭當局的授權。
出口管制將於9月1日生效，ASML已明確表示將在該日對14nm-45nmDUV器件實施出口管制。
感謝 asml 對"老"EUV光刻機出口有限制，中國企業這次可能很難獲得14nm-45nm的DUV光刻機。 為此，一些外企表示，如果沒有ASML先進的光刻機，中國企業將切斷一切外援。
俗話說：相信你所擁有的總比不相信你不相信的要好。 從日本禁止從荷蘭出口光刻機可以看出，寄希望於西方國家獲得光刻機是不可取的。 只有腳踏實地的研發，集聚人才的管理方式，花錢的決心，務實低調的工作作風，才能實現光刻機的自主研發和生產。
幸運的是，上海微電子自有的28奈米光刻機已經進入驗證階段，如果一切順利，這台28奈米光刻機將在未來幾年內問世。 屆時，我國將在28奈米光刻技術上取得突破，從而實現28奈米晶元的自主性。