日本繞過EUV光刻機製造2nm晶元，ASML面臨新的挑戰。
光刻晶元的使用是常識，沒有光刻技術，晶元圖案就無法暴露在晶圓表面，更不用說後續的雕刻、封裝等步驟了。 但是，光刻晶元也有很大的缺點，成本高，能耗高，最先進的EUV光刻機不是花錢就能買到的。
各國都在探索新的道路，日本已經找到了通過製造2奈米晶元來規避EUV光刻技術的方法，ASML也沒想到制裁來得這麼快。
EUV光刻的現狀。
荷蘭ASML公司備受追捧，因為它是唯一一家能夠生產EUV光刻機的製造商。 EUV光刻技術是製造高階晶元的重要工具，注定在行業中占有非常高的地位。 通過多層技術，EUV光刻可以在同一道次中完成，這允許在同一道次中完成晶元的不同層。
與傳統的多層工藝相比，這提高了製造效率並降低了成本。 此外，EUV光刻技術的短波長允許更高的解像度和更小的線寬。 這對於製造更小、更密集的晶圓元件非常重要，這可以提高晶圓整合度和效能。
然而，EUV光刻技術的劣勢也很明顯：成本高，一台EUV光刻機價值數億美元，但仍然要付出代價。 高能耗，EUV光刻機每天消耗大量能源。 台積電擁有全球一半以上的EUV光刻機，當產能利用率下降時，不得不關閉其中幾台以節省能源。
製造一台EUV光刻機也是非常困難的，ASML一年的產能非常有限。 由於這些缺點，ASML的EUV光刻機只能由少數客戶購買。 各國正在探索晶圓製造的新途徑，試圖找到光刻以外的更多解決方案，而日本的佳能已經成功地做到了這一點。
佳能日本的奈米列印解決方案。
佳能是一家老牌光刻機廠家，其口碑比ASML還要大，而且只有ASML整合了西方全球產業鏈的資源，支援EUV光刻機的製造，實力地位有了很大的提公升，從佳能看不出什麼。
佳能並不打算放棄競爭，一旦在傳統光刻路線上無法與ASML競爭，就另闢蹊徑，於是佳能推出了奈米壓印解決方案。 從佳能的介紹中可以看出，該方案不斷改進和公升級，已經可以製造出5nm晶元和更先進的2nm晶元。
該計畫的裝置FPA-1200NZ2C型已經開始生產和銷售。 FPA-1200NZ2C器件走奈米壓印之路。
奈米壓印技術也是眾所周知的，它可以通過將模具或模板上的奈米圖案轉移到目標材料表面來對材料進行奈米級結構加工。 基本原理是使模具或模板與目標材料接觸，並施加足夠的壓力，將模具中的奈米圖案轉移到目標材料表面。
通常，模具中的圖案是使用先進的製造技術製備的，例如光刻和電子束**。 在列印過程中，模具與靶材的接觸面積非常小，因此可以進行奈米級結構加工。
簡而言之，奈米壓印是在模具上蝕刻晶圓圖案，然後用它來："海豹"它印刷在晶圓表面，實現晶圓圖案的轉移。 其實奈米壓印的概念早就提出來了，國內也有這方面的廠商，但能製造出來的產品並不多，像佳能這樣實現5nm、2nm晶圓製造的就更少了。
也許佳能的日本奈米壓印計畫真的可以改變整個晶元製造業。
ASML的地位難以維持嗎？
ASML沒想到制裁來得這麼快，這次ASML要引進乙個強大的對手。 ASML的地位會難以保護嗎？這可能取決於奈米列印裝置的市場優勢。
短期內，奈米壓印裝置作為一種新興的奈米製造技術，雖然具有一定的潛力和市場前景，但現階段仍面臨一些挑戰。 例如，奈米壓印裝置的製備和操作技術相對複雜，需要高精度的模具和高壓控制。
奈米壓印技術在某些方面可能無法與光刻技術相提並論，例如解像度和製造效率。 畢竟這是新產品，奈米壓印技術的市場規模和應用範圍相對有限。
目前，光刻技術在半導體行業佔據主導地位，隨著晶元尺寸的不斷縮小，對更高解像度的需求也在增加，這為ASML的EUV光刻技術提供了更廣闊的市場。 因此，佳能希望用奈米壓印裝置挑戰ASML的地位，但也需要經得起市場的考驗。 奈米壓印技術的未來可能還有很長的路要走，讓我們拭目以待。