現實認識到，光刻機很難突破，研發投入相差270倍
光刻。 隨著新能源汽車、人工智慧等新興技術的興起，對半導體材料的需求越來越大。 說到晶圓，很多人都會想到半導體製造過程中非常關鍵的裝置：光刻機。 光刻可分為前端光刻、封裝後端光刻、LED、平板光刻等多種型別。 目前，荷蘭ASML公司擁有世界最高水平的EUV光刻機，擁有3nm工藝的EUV光刻裝置。
上海微電子***
光刻是乙個非常關鍵的問題，我們國家在這個問題上進展如何？事實上，情況並不樂觀。 上海微電子是國內最尖端的光刻裝置之一，開發了193nm ARF ARF光刻工藝，並將其應用於28nm工藝。
然而，在上海，由於半導體材料研發投入不足，半導體材料的研究進展緩慢。 近十年來，光刻領域的總投資已達6億元，平均每年僅6000萬元相比之下，ASML在2024年的研究經費達到22億，相當於162億，相當於上海微電子公司的270多倍
為什麼ASML願意在研發上花這麼多錢？沒有其他原因，光刻機的好處非常高。 2024年，ASML共出售了258臺光學顯影機，總銷售額超過140萬歐元，利潤35歐元540億歐元。 31 臺最先進的 EUV 光刻機以 1.5 億歐元的價格售出**。 高盈利能力和高研發投資是ASML在光刻領域保持領先地位的秘訣。 如今，ASML是名副其實的科技巨頭，市值達34210億。
晶圓生產。 光刻技術的缺乏已成為半導體行業發展的瓶頸。 中芯國際已從ASML購買了一台EUV光刻機，但到目前為止，尚未交付。 如果沒有EUV光刻機，7nm以內的工藝技術根本無法開發，中芯國際在工藝研發方面的進展也會放緩。
目前，不僅最前沿的極紫外光刻機，就連常規的深紫外光刻機，也存在嚴重短缺。 在這種供不應求的情況下，如果國內晶元廠商能夠得到更多的光刻機，那麼他們的晶元產量將大大提高，甚至有可能占領整個世界的晶元市場。
光刻。 不幸的是，由於光刻機的短缺，這個絕佳的發展機會被推遲了。 光刻機遇到的困境也提醒我們，迫切需要加大對重要積體電路研發的研發投入。 尤其是在當今科技時代，半導體技術不再侷限於消費領域，而是在國防、雲計算、人工智慧等前沿領域發揮著舉足輕重的作用。
目前，在積體電路行業，加大研發投入和人力資源投入是亟待解決的問題。