成本減半！佳能的奈米壓印技術已經能夠生產出與ASML相媲美的2nm半導體

據日本報道，佳能針對半導體電路光刻工藝推出了自主研發的奈米壓印技術，該技術可大幅降低成本和耗電，這是半導體廠商高度期待的，目前可生產2nm產品。

據佳能半導體裝置業務總監岩本一德介紹，奈米壓印是將半導體電路圖的掩模壓印在晶圓上，只需在晶圓上壓印一次，就可以在合適的位置形成複雜的二維或三維電路，如果對掩模進行改進，甚至可以生產出2nm的產品。

奈米壓印的特點是裝置結構簡單，與傳統的雕刻電路方法相比，奈米壓印的功耗可以降低到1：10，裝置會便宜很多。 據估計，單次奈米壓印光刻工藝的成本可以降低到傳統光刻裝置的一半。

岩本一德還介紹，2024年佳能與鎧俠、大日本印刷合作開發，奈米壓印技術在量產方面的實際應用已經備受矚目，可以賣給客戶。

2024年前後，日本和尼康佔據了世界光刻裝置市場的很大一部分，但隨著荷蘭SAML公司開發EUV光刻裝置，市場立即重新洗牌，EUV成為尖端半導體光刻的主流，佳能也失去了大部分市場。

現在，佳能已經磨練了十年的劍，推出了奈米壓印技術，有一種重新奪回光刻市場的立場。 不過，ASML也向英特爾交付了第一台2nm EUV光刻機，短期內，佳能希望依靠奈米壓印技術來對抗ASML，可能希望不大。