ASML末日狂歡：EUV光刻機或許難以擁有下一代產品，前景令人擔憂。
2023年對ASML來說是瘋狂的一年，光刻機銷售額為276億歐元，同比增長30%，淨利潤為78億歐元，同比增長43%，毛利率為513%。
2023年，ASML銷售EUV光刻機53臺，浸沒式DUV光刻機125臺，普通乾式DUV光刻機32臺，KRIF光刻機184臺，L-Line光刻機55臺，各型別光刻機銷量均超過2022年。
而對於2024年，ASML並不樂觀，稱其預期與2023年大致相同。
事實上，2024 年應該是 ASML 大幅增長的一年，那麼為什麼不更多呢？ 究其原因，ASML的EUV光刻技術已經到了極限，很難擁有下一代，前進的道路被堵住了。
目前，ASML最大的收入**實際上是EUV光刻機。 以 2023 年為例，53 臺 EUV 光刻機，每台價值約 18億元，貢獻近100億元，佔三分之一。
目前銷售的主要EUV光刻機為NA=033 臺機器。 Na 也稱為數值孔徑，也稱為低 Na 系統，因為 033 是乙個低數值孔徑。
光刻機能夠實現 26 奈米的最小金屬間距和 25-30 奈米的端到端近似互連空間間距，理想情況下能夠製造 3 奈米晶圓。
na=0.55光刻技術具有更大的數值孔徑（稱為HiGT-NA系統），可實現16奈米的最小金屬間距，從而實現亞2奈米甚至1奈米的工藝節點。
但是，這台光刻機的 na=055、成本高，達到38億元，比上一代**翻了一番，同時，ASML表示，目前的產能還很差，一年只能生產不到10臺，所以ASML對此並不是特別看好，畢竟目前的光刻機033Na，也可以生產2nm晶元。
只有2家3nm晶元廠，原來的EUV光刻機都不會被淘汰，現在NA=055的光刻機肯定賣得不是特別好，所以對2024年不是很看好，如果能保持2023年的營收就好了。
事實上，ASML最大的問題還沒有到來，因為當NA增加到0時在55時，數值孔徑達到極限，無法進一步增加。
至於其他提高紫外光刻解像度的方向，如降低光源波長、提高光刻工藝係數等，基本已經達到極限，短期內無法改進。
因此，去年，ASML負責該技術的聯席CEO表示，ASML很難在EUV光刻技術上取得任何進展，即NA=055 的 EUV 光刻可能是最後一代，將於 2024 年退役。
因此，當EUV光刻機無法再公升級時，ASML就在那裡"計算日期"也許現在可以賣掉，但未來呢？
當然，也有人認為，或許EUV光刻技術還能往前走，只是目前看不清方向，但缺乏方向是企業最大的不確定性，沒有確定就沒有未來，企業該怎麼辦？