浸沒式光刻機理論上可以製造2nm晶元，成本是唯一的障礙
雖然浸沒式光刻技術原則上已經能夠製造出2奈米的晶圓，但它面臨的主要問題是**的高成本。
前段時間，浸沒式光刻技術原則上實現了2奈米工藝，引發了業界和網友的熱議。 身臨其境的光刻技術被輕描淡寫！這種方法是基於所謂的"倍數**"原則上，可以生產 2 nm 或更高的晶圓。 這個招好嗎？ 它會起作用嗎？ 貴嗎？ 一起來看看吧！
1. 多**法的基本理論是什麼？ 獲得更高解像度的依據是什麼？
Multiple** 是將原來的單段**分解成幾個段落，比如 10 段或 20 段。 這種方法可以降低單次曝光的難度，可以提高影象的清晰度，減少計算節點的數量。 這個原則就像一次寫乙個單詞，它總是比一次打出整個句子更容易。
2.但多重曝光最大的問題是成本太高，你說呢？
首先，每個的校準都非常準確，或者是錯誤的。 這需要非常精密的儀器來確保準確和可重複的位置，而且成本可能很高。
其次，多層疊層對光刻膠的需求較大，對光刻膠的要求也較高。
第三，由於風險上公升，收入問題可能成為最大的障礙。 如果出現問題，損失可能會很大。 這對輸出管理來說是乙個巨大的挑戰。
如何實現經濟與科技的平衡？ 虛擬光刻的未來是什麼？
每一項技術進步都有其自身的侷限性，但它們是可以不斷超越的靈活侷限性。 但問題是，你走得越高，你的費用和難度就越大。 要實現這一目標，就必須在經濟效益和社會效益之間取得平衡，否則將非常困難。
乙個企業要想實現科技與資本的有效結合，就必須依靠自身不斷創新和強有力的支撐。 只有這樣，才能打破浸沒式光刻工藝發展的瓶頸，否則就會被7nm及以上的工藝瓶頸卡住。
4. 沉浸式光刻能實現2nm工藝嗎？ 業內人士和網友對此有不同的看法。
在網際網絡上，關於此事的討論迅速公升溫。 有網友表示，光刻總會有辦法，預計幾年內就能完成; 有網友表示，這樣做的成本非常高，需要**的補貼; 也有人認為，要盡可能減少接觸頻率，從材料和裝置入手。 總的來說，我們都期待著技術的發展。
科技驅動發展，經濟驅動發展。
從這一點可以看出，每一項技術的發展都有一定的生理侷限性。 但是，阻礙科技進步的主要因素是，科技要想不斷進步，就必須有科技進步與資本投入相結合的政策。 這是技術發展的普遍規律。
企業和企業應加強科技與資本造福人類的雙重推進，以沉浸式方式突破光刻新領域，從理論走向實踐！
科技創新也離不開資金的支援，浸沒式光刻能否打破現有工藝的侷限？
浸沒式光刻能否承受 2 nm 及以上的多種工藝**？ 這是乙個需要我們繼續關注和思考的問題。 科技創新雖然很重要，但沒有足夠的資金支援是不可能完成的，也很難突破自身的侷限性。 我們拭目以待！