ASML2nm晶元光刻機已獲得540億訂單

前段時間有報道稱，英特爾已經獲得了ASML最新的2nm晶元EUV光刻機。

這種EUV光刻機型號稱為EXE：5200，與之前的EUV光刻機相比，最大的變化是數值孔徑NA，從033，成為當前的 055。

新的EUV光刻機稱為高數值孔徑系統，而以前的光刻機稱為低數值孔徑系統。

ASML之前曾說過，當NA提公升到0時55歲以後，現在基本不可能改進，所以ASML認為，這台光刻機可能是最後一代EUV光刻機，ASML本身對未來能否改進沒有信心。

這種光刻機可用於製造2nm及以下的晶元，因為NA越高，解像度越高，工藝越低，據說至少可以實現1nm以下晶元的製造。

這個 na=0重達150噸（150,000公斤）的55光刻機在運輸時需要250個貨櫃箱，同時，拆卸運輸到目的地後，需要250名工人進行6個月（180天）的安裝除錯才能完全安裝。

目前，台積電和三星已經實現了3nm工藝，按照計畫，兩家晶圓廠將在2025年實現2nm工藝，而英特爾則表示將在2024年實現2nm工藝。

因此，毫無疑問，這款新一代EUV光刻機將再次被幾大晶圓廠搶購，因為大家都想在2nm時間搶占先機，搶占更多產能，成為晶圓製造的老大。

所以最近，ASML表示，它已經收到了來自幾個主要客戶的新型EUV光刻機的訂單，數量約為20臺。 未來，它的目標是每年能夠生產 20 臺這樣的光刻系統。

而這種光刻機，乙個**大約是38億美元，20個單位是76億美元，也就是540億元人民幣。 而上一代EUV光刻機只有1台約8億美元。

與上一代光刻機相比，每台高出2億美元，20台為40億美元，相當於290億元人民幣。

2017年，美國就明確禁止ASML向中國大陸出售EUV光刻機，即使是最老的EUV光刻機也不能賣給中國大陸，所以無論ASML技術多麼先進，我們都要靠自己，獨立做出來......