關於EUV光刻機的禁令，南韓企業巧妙地打破了它，10年前的手段再次出現！
請按我的名字，每天都會有很棒的技術報告！
摘要：南韓企業一舉打破了EUV光刻機的封鎖，近十年的花樣又重新出現！
極紫外光刻機是世界高階積體電路生產的核心裝置，發揮著極其重要的作用。 但隨著美國對EUV光刻的封鎖，全世界的半導體產業都受到了巨大的衝擊。 該禁令不僅針對荷蘭ASML，還針對三星、SK海力士（SK）和台積電等下游晶元製造商，這些製造商在生產方面舉步維艱。 在這種情況下，這家南韓公司想出了乙個新辦法，那就是用十年的老辦法來突破這個“禁令”。
首先，重要的是要了解 EUV 光刻被禁止的根本原因。 美國此舉旨在通過控制核心裝置來遏制中國在半導體產業的發展，這反過來又對中國在全球的晶元產業構成威脅。 但禁令並沒有發揮應有的作用，相反，中國加快了自己的研發速度，試圖打破對中國技術的封鎖。
面對這一禁令，南韓公司表現出了很大的靈活性。 以SK海力士為例，它採取了非常聰明的方法來規避這一禁令。 SK海力士在大陸也有一家晶元工廠，如果沒有先進的光刻機，產量肯定會大大減少，所以SK海力士也宣布了三步走的計畫，第一步就是在中國建立基礎製造基地。 隨後，晶圓被運往南韓進行EUV工藝的生產; 然後，這些零件被送回他們在中國的工廠進行最終包裝。
這樣做會增加公司的製造費用，但由於第四代機更貴，增加的成本可以完全收回，也會給公司帶來可觀的收益。 更重要的是，此舉不僅打破了EUV光刻機的封鎖，也給其他廠商帶來了新思路，可謂是重現了SK海力士十年前打造新晶元的方法。
從長遠來看，對極紫外光刻機的禁令將對全世界的半導體行業產生深遠的影響。 首先，這一禁令將加速整個半導體行業的區域發展程序。 隨著世界的擴張，世界積體電路產業結構將出現新的發展趨勢。 其次，該禁令將促使中國加快半導體產業自主發展的步伐。 中國將繼續加強對半導體產業研發的投入，加快實現新的科技成果，提高我國的產業競爭力。 這將有助於中國提高其在世界上的競爭力，同時逐步減少對外國技術和裝置的依賴。
但是，對極紫外光刻機的禁令也應該認真對待。 隨著經濟全球化和國際經濟一體化的發展，對某個國家或地區核心裝置的控制將導致全球產業鏈斷裂。 這將導致技術交流受阻、資源分配不均、市場分割，將對全球半導體產業的發展產生負面影響。 為此，世界各國不僅要加強科技獨立性，更要注意維護世界產業鏈的穩定與合作。
在企業方面，在EUV封鎖等相關技術制約下，應主動調整策略和製造方式。 首先，企業需要與行業機構進行溝通和協作，以應對“技術壁壘”。 二是要加強科研開發投入，提高科技自力更生水平，積極尋找替代科技裝備; 同時，企業應密切關注全球國際產業鏈動態，及時優化產品和產業鏈戰略，確保自身在全球的競爭力。
總的來說，EUV光刻機的頒布對全世界的半導體行業產生了很大的影響，對整個行業也產生了很大的影響。 但同時，也促進了國家和企業的發展。 在此背景下，世界各國應進一步合作溝通，維護世界產業鏈的穩定與發展。 因此，面對技術封鎖，企業必須靈活應對技術封鎖的影響，通過創新和戰略重組。 只有這樣，我們才能推動世界半導體產業的不斷發展和進步。