ASML確認，低端浸沒式DUV光刻機的出口也受到限制。
2024年初，ASML宣布取消兩項生產許可證，包括NXT：2050 i和NXT：2100 i光刻裝置，ASML表示這只會影響一小部分中國使用者。
一開始，沒有多少人相信ASML現在擁有大量的DUV光刻裝置，而且只有兩種型號的有限裝置。
這四台光刻機的解像度在7奈米到5奈米之間，唯一的區別是製造速度，他們根本不需要擔心。
不過，最近ASML官方確認，除了NXT：2050i、NXT：2100 I之外，還有一些低成本的浸沒式深紫外光刻機，也受此限制。
ASML表示：“一家中國高階晶圓製造商無法獲得NXT 1970 I和NXT 1980 Di浸沒式DUV裝置的許可。 ”
“獨立晶元廠”指的是什麼，中國的晶元廠已經被列入美國的“實體清單”。
事實上，從明年10月開始，美國對光刻技術的限制將變得更加嚴格。
2022 年 10 月，美方提出了一項新規定，用於使用 193 nm 光刻機，光刻裝置的 DCO 小於 15奈米，即禁止輸出，超過標準的允許輸出。
到 2023 年 10 月，禁止 193 nm 光學泊量的極限低於 45 nm，DCO 低於 24nm將無法輸出，DCO對DCO的要求更嚴格。
NXT：1970 I NXT：1980 Di，使用193 nm，解像度低於38 nm，DCO值為16 奈米，因此，它的 DCO 值為 15 nm 及以上，在 2低於 4 奈米。
今年10月被禁止後，可以進行出口。 但是，到明年10月，該產品將不再能夠出口。
正因為如此，ASML解釋了為什麼中國製造商不能出口1970年代的NXT和1980年代的NXT。
在這種情況下，中國晶元製造商必須在中國購買NXT 1965 CI光刻裝置，才能在2013年生產。
但不要太著急，中國企業已經從ASML購買了價值500億美元的光刻機，這些光刻機足夠撐未來幾年了，就算現在沒有，未來幾年也不會這樣，唯一的問題是國產光刻機能不能跟上。