ASML浸沒式DUV光刻機和EUV光刻機正式停產**！
前言。 在半導體領域，ASML針對中國大陸市場的具體決策過程無疑引起了廣泛關注和熱議。 作為全球最大的光刻機製造商，公司提供的裝置在現代電子產品的生產中發揮著不可替代的作用。
儘管ASMAEL早些時候對繼續向我國出口DUV泛光燈猶豫不決，但事態的發展出乎意料地迅速，面對美國的壓力，荷蘭無法堅持自己的立場，宣布暫時停止向我國供應這項關鍵技術。
從歷史上看，荷蘭公司ASML對中國市場的態度並不總是一樣的。 早期，公司在國內非常活躍，不僅在人員交流、技術合作等方面進行了深入交流，還積極引進了與促進我國本土企業發展相關的先進技術和裝置。
隨著國際政治格局的不斷演變，中美之間的競爭日趨激烈，阿斯梅爾的態度也發生了變化。
尤其是近幾年來，公司在美國受到一系列限制**，甚至在市場交易活動中受到歧視性待遇。 在這種情況下，ASML必須謹慎處理，以確保其商業利益不受損害。
2022年12月8日，據報道，荷蘭最大的口香糖生產商安提姆公司在美國的壓力下，決定限制其在中華人民共和國的口香糖營銷活動。
因此，該國外交媒體參與者報道的最新事態發展表明，2022 年 12 月 9 日，美國和荷蘭就可能就對中華人民共和國的半導體出口實施管制達成協議取得了初步結果。
荷蘭表示願意深化與美國的合作，限制中國企業獲取尖端積體電路技術，並編纂對華半導體出口管制機制，以與美國10月7日採取的一系列出口措施保持一致。
根據國內和國際報道，具體的執法措施包括禁止向中華人民共和國的荷蘭公司ASML供應極具競爭力的DUV浸沒式光刻機。 雖然這種光刻機不如EUV光刻機強大，但它仍然具有製造7nm及以上晶元所需的硬體能力。
ASML向公眾發表宣告。
新年伊始，情況發生了巨大變化。 全球領先的光刻機製造商ASML前段時間發表宣告稱，荷蘭**決定吊銷其部分光刻機的出口許可證，包括ASML的兩大旗艦產品2050i和2100i，無法再向中國企業供貨，直接影響到少數依賴該裝置的大陸客戶。
在這種情況下，我們難道不擔心中國高科技領域的前沿積體電路技術的研發會受到負面影響嗎？ 事實上，情況並不像你想象的那麼慘淡。
ASML的宣告並不像看起來那麼簡單，它有一些微妙之處。 雖然ASML只提到2050i和2100i光刻機的許可證已經撤銷，但實際上，它們可以出口的四種產品仍然可以出貨，即2000i和1980di可以繼續根據合同為客戶提供服務。
我們必須意識到的是，這四款採用浸沒式製造工藝的光刻機都能夠製造出從45nm到7nm的產品，只是生產率不同。
值得注意的是，這一次荷蘭**只是吊銷了兩台光刻機的許可證，即使是應美國的要求**。
如果美國繼續施加壓力，荷蘭**可能會進一步收緊對2000i型光刻機的出口管制，但無論如何，ASML仍將有權運送剩餘的少量1980Di型光刻機，以繼續為客戶服務。
ASML的光刻產品並不止於此，該公司已經為其客戶提供大量光刻產品。 在ASML的最新宣告中，該公司明確表示，中國客戶積壓的預付費DUV光刻機已經基本完成。
這充分說明ASML的**渠道並未受到此次事件的嚴重干擾，也說明中國大陸市場對ASML光刻產品的需求依然強勁。
據了解，截至2023年，ASML已向中國大陸銷售價值超過600億元的光刻產品，2022年銷售額增長近3倍; 值得一提的是，ASML去年第二季度來自中國大陸的收入市場份額達到24%，第三季度上公升至46%。
考慮到所有這些事實，有理由相信ASML在中國大陸的市場份額仍然相當可觀，目前的庫存足以確保未來幾年的市場需求得到滿足。
上海微電子.
根據公開披露的資訊，荷蘭ASML公司的TwinsCannXT：2000i型號是其最先進的深紫外（DUV）浸沒式光刻機之一。
這意味著中國將不得不繼續依賴TwinsCannxt：1980Di及更早的裝置，這些裝置在精度和製造潛力方面落後：根據官方ASMAX的統計資料**，NXT 1980Di的解像度不低於38奈米，數值孔徑為135，每小時可生產多達 275 片晶圓。 雖然該器件經過多次多次後已經能夠滿足低至7奈米左右的精度要求，但由於成本高昂，難以應用於大規模生產，目前主要用於14奈米及更高精度的要求。
儘管困難重重，中國仍然堅定地致力於發展自己的光刻技術。 現階段，上海微電子集團研發的SSA600 20浸沒式光刻機已成功量產90nm晶圓，目前最大產能甚至可以達到45nm。
雖然與ASML為中國市場提供的高階機型有限存在一定差距，但這無疑是中國自身在光刻技術領域取得的重要成就。
在此基礎上，上海微電子積極參與193nm波長輻射氬氦浸沒式光刻技術的開發，該技術應覆蓋從45nm到最大22nm的整個規格工藝範圍。
雖然該機型尚未達到NXT 1980Di機型的DUV光刻機水平，但足以顯示中國自主研發光刻機的決心和實力。
為了在紫外光刻領域趕上國際頂尖水平，中國顯然需要投入更多的精力和時間。
美國*** 要求 ASML
根據ASML的官方披露，我們預計取消美國出口許可證和新實施的出口管制措施不會對我們2023年的財務狀況產生難以承受的影響。
在此基礎上，美國**在前段時間與ASML的深入對話中，進一步明確了其出口管制的原則和影響。
特別是2023年10月17日發布的最新出口管制令，明確禁止將某些中高階深紫外（UV）浸沒式光刻機型轉讓給某些特別先進的晶圓廠**。
在這方面，ASML還強調，它將繼續履行其承諾，遵守其業務所在國家的所有適用法律和法規，特別是出口管制法規。
還有報道稱，就在ASML正式宣告前幾個小時，美國**人員甚至上門談判，敦促ASML立即停止向中國客戶運送他們安排的一些機械裝置。
需要注意的是，所謂的DUV光刻實際上用於製造28nm及以下工藝更成熟的晶元。
根據科學原理，這種光刻機經過多次生產可以生產10奈米晶元，主要製造商包括荷蘭的ASML和日本的尼康、佳能等知名企業。
隨著下一代半導體製造工藝向5nm及以下演進，EUV技術將成為新興光刻和先進工藝加工的關鍵要素，特別是在設計具有7nm和子製造工藝的LSI時，荷蘭的ASML仍然是世界上唯一的此類裝置供應商。
總體而言，對ASML裝置出口的嚴格限制可能會對全球半導體行業產生深遠的影響。
浸沒式光刻機不可用。
早期，由於美國嚴格的政策禁止ASML向中國大陸出售其極紫外（EUV）光刻機，中國大陸的半導體製造公司一直無法使用EUV光刻機作為關鍵裝置。
在此期間，美國繼續加大力度封鎖中國大陸的邏輯積體電路加工技術，使其保持在14奈米水平，進而與日本、荷蘭結成聯盟，共同加強對光刻機出口的控制。
日本明確表示，所有採用浸沒式光刻原理的機器都不能銷往中國; 荷蘭公司ASML也宣布，所有浸沒式光刻產品中只有一種，NXT：1985DI型號有資格出口，它是世界上第乙個適用於J&J（JPEG）工藝技術的光刻系統。
隨後的事態發展表明，自2023年10月以來，美國再次收緊收購政策，導致ASML唯一的NXT：1985DI光刻機也被列入出口禁令名單，無法再運往中國大陸。
阿斯梅爾也坦言，儘管困難重重，但憑藉自身的專業能力，同年獲得了相關牌照，目前各項工作正在進行中，預計近期可在中國大陸銷售全系列浸沒式光刻機（包括DUV和EUV型）。
鑑於2024年將是新政策實施的起點，因此有理由認為，從該年起，ASML將正式停止向大陸市場供應浸沒式DUV光刻機和EUV光刻機。
具體來說，今年以來，中國大陸的ASML企業紛紛引進了大量的光刻機，據統計，截至11月底，ASML企業在中國大陸進口的光刻機數量已超過500億元，與去年同期相比，進口額增長了近3倍。 顯然，中國大陸正在積極利用ASML的沉浸式光刻機銷售視窗進行大規模購買和預訂，畢竟這樣的機會從明年開始就很難複製了。
中國的核心永遠不會彎曲。
近年來，美國以中國5G技術為切入點，追逐中國尖端技術可能對其構成潛在威脅的風影，隨後開始採取各種手段對中國相關企業施壓打壓。
從過去對中國晶元產業的最初封鎖，到後來與日本、南韓和荷蘭結盟"四方聯盟"甚至終於達到了"三方保密協議"，美國逐步加大了對中國晶元產業的制裁力度，到現在為止，美國能用到的控制措施幾乎都暴露無遺。 美國擁有幾乎所有的控制權。
在美國，包括上游半導體原材料和軟體開發商、上游光刻機生產商以及下游晶圓製造和代工廠在內的幾個細分市場受到嚴格限制。
因此，我們必須堅持自力更生、自強不息，中國正在全力推廣自主研發的光刻技術，以盡快實現該領域的國產替代。 人們必須認識到，如果我們國家能夠克服這一癥結，也將意味著美國科技霸權的徹底崩潰。
從大局看，我個人認為，美國對中國晶元產業的遏制，可以成為推動中國科技領域發展進步的契機和動力。
美國之所以從整個上下游產業鏈的角度對中國進行全面遏制，主要是為了阻止中國半導體產業向高階產品發展，而此次政變最突出的目標之一就是中國的中芯國際積體電路製造業。
鑑於中芯國際是中國最具競爭力的餅乾生產商，它躋身全球前五。
結論。 目前，大中華區半導體製造業已成功與全球多個國家和地區建立了穩定和諧的合作關係，如與歐洲知名企業英飛凌、意法半導體的密切合作，與日本知名廠商東芝、村田的深度合作，當然還有與南韓三星電子、SK Innovation Co.的深度合作
如果在此基礎上，能夠為光刻機等關鍵裝置找到更多樣化的替代選擇和一流的資源，無疑將增強大中華區半導體製造業的抗風險能力，提高市場競爭力。
基於以上分析，我們可以看到，這些資訊對大中華區半導體製造業的影響極其複雜，既有負意義，也有積極意義; 挑戰嚴峻，但機遇難得。
為此，我們要求業界同仁在這個關鍵時期保持冷靜的頭腦，既不要過於消極悲觀，也不要盲目自信和傲慢，只有堅定的信念，加大自主技術的研發，擴大對外交流與合作的範圍，追求半導體產業的高水平發展， 才能在這個競爭激烈的市場環境中逆流而上，贏得更大的勝利。