全球約90%的光刻膠產自日本，如果日本有一天停止生產，中國晶元製造業將面臨哪些挑戰？
去年華為Mate60 Pro發布時，引起了巨大的國際反響，一些分析人士認為，它標誌著中國突破了西方對晶元技術的限制。
美國商務部和科研機構對華為麒麟9000S晶元進行了分析，確認其採用7nm工藝，完全在中國生產，而不是台積電代工廠。
那麼，這是否意味著中國在這場晶元技術競賽中獲勝了呢？ 我們不能慶祝得太早，因為在晶元製造領域，我們依賴從日本進口的另一項關鍵技術，那就是光刻膠。
光刻膠或光刻膠對光極敏感。 它的工作原理是光引起的化學變化，改變膠體的溶解度，是半導體製造不可缺少的原材料。
光刻膠由感光樹脂、敏化劑和溶劑組成，分為正片和負片兩種。 根據光源和所用輻射型別，光刻膠有多種型別，例如紫外光、深紫外光、X 射線、電子束和離子束光刻膠。
在製造過程中，光刻膠用於光刻步驟，通過將光刻膠塗在晶圓上並**，顯影部分溶解並消失，形成所需的圖案，為晶元的蝕刻和摻雜等後續步驟提供基礎。
光刻膠的質量直接關係到晶元的效能和質量，因此光刻膠的質量控制在晶元生產中極為重要。
有人可能會問，光刻膠和熱敏相紙的塗層之間有聯絡嗎？ 事實上，在原理和化學成分上有相似之處，只是照片的直接顯影使用自然光。
光刻膠的研發和生產是技術競爭的重點領域之一。 隨著人工智慧和物聯網技術的發展，對晶元的需求和效能要求越來越高，高解像度、高靈敏度的光刻膠成為高階晶元製造的關鍵原材料。 因此，掌握自主光刻膠技術對國家資訊保安和經濟發展至關重要。
然而，目前全球光刻膠市場幾乎由日本製造商控制。 日本在數位相機領域多年的技術積累已經應用到晶元生產中，日本JSR等幾家公司佔據了全球90%左右的市場份額，剩下的份額被德國化工企業佔據。
根據中國海關總署的資料，中國從日本進口的光刻膠總值達到125億美元，佔所有感光材料進口的55%。 雖然數量不多，但在晶元製造中占有舉足輕重的地位。
令人擔憂的是，JSR在去年6月與日本政府進行了接觸。
政府簽署了一項協議，將所有核心業務**交給國家，成為國有企業。 這一變化意味著中國的光刻膠**可能會受到政治因素的影響，而在半導體領域，這為美國和日本提供了更多的議價籌碼。
如果日本禁止向中國出口光刻膠，我們將如何應對？
事實上，沒有必要太擔心。 光刻膠主要由感光樹脂、敏化劑和溶劑組成，其中感光樹脂是關鍵成分，可由國內企業生產，如南大光電、蘇州瑞虹、北京科華等。
特別是南大光電僅用了3年時間就研發出了國內首款ARF光刻膠，質量不遜色於日本產品，金屬雜質少，但成本仍需優化。 由於對中國技術進步的擔憂，日本製造商至今未介入光刻膠，一直保持著正常的供應關係。
2023年，中國光刻膠進口量將降至9個5億美元，表明國內產量正在逐步增加。 目前，我國光刻技術主要受限於高精度、穩定的極紫外光源，目前只有荷蘭的ASML掌握。 為了實現我國半導體產業的自主公升級，需要開發穩定的極紫外光源技術。 隨著半導體技術接近極限，仍有追趕的空間，未來的晶元可能依賴量子技術而不是傳統電晶體，開闢新的競爭軌道。