掃瞄電子顯微鏡X射線源專為電子顯微鏡設計X射線源，SEM的理想選擇XRF光譜，是理想的XRF射線源跟X射線螢光光譜儀X射線源。
SEM X 射線源具有緊密的輪廓Minato的設計和滑動安裝功能允許非常接近樣品。 取向在樣品表面從小到大的激發區域產生高“通量”（X 射線）。 掃瞄電子顯微鏡X射線源xsemtm 的激勵區域為 500 至 25 mm。 整合高壓電源為 10 瓦（35 kV 和 0.）。1 mA，取決於陽極材料）。緊密耦合可提供與傳統“台式”或“獨立”電池相媲美的 XRF 分析結果。 掃瞄電子顯微鏡X射線源X-SEMTM設計不會干擾電子顯微鏡的正常執行，包括在同一樣品上使用電子束，同時收集所有元素。 無需特殊冷卻。
電子束（來自掃瞄電子顯微鏡）產生非常高的背景，以隱藏樣品中的痕量元素。 來自真正的“X射線”源的X射線沒有這種效果。 用掃瞄電子顯微鏡X射線源Xsemtm 可以輕鬆識別、量化甚至生成痕量 X 射線圖，以檢視樣品中痕量元素的元素分布。
應用： Art & Archaeology Petroleum EDXRF
化學製藥應用。
塗料和薄膜 塑料、聚合物和橡膠。
化妝品電鍍和電鍍槽。
環保木材處理應用。
食品應用 其他應用。
取證。 金屬和礦石。
礦物和礦產品。