ASML光刻機終結，外媒：彎道超車失敗，半導體格局將面臨變化。
荷蘭半導體裝置公司ASML是目前全球唯一一家能夠提供EUV光刻技術的公司，在半導體領域獨樹一幟。
然而，ASML公開披露的資訊顯示，它不僅依賴全球5000多家第一鏈製造商為其EUV光刻機提供零部件，而且嚴重依賴美國技術。 因此，美國能夠限制ASML的一些先進半導體裝置**。
晶元市場競爭
不得不說，美國打壓和遏制了中國的晶元產業'匕首'，哪怕面對所謂的'安全威脅'，他們也懶得去找。 但美國也知道一件事，那就是單靠單邊武力是很難阻止中國晶元產業發展的，因此美國與日本、荷蘭、南韓等盟國不僅結成四方聯盟，限制先進晶元和技術的出貨，還制定了所謂的三方協議，限制半導體裝置的出貨。
從目前的市場情況來看，美國、日本和荷蘭的半導體裝置製造商普遍佔據了全球半導體裝置市場90%以上的份額，雖然荷蘭的半導體裝置製造商只有20%左右的市場份額，但荷蘭的光刻技術裝置製造商可以說是'一條龍'存在。 晶元分為晶元設計、晶元製造和晶元生產。
晶元分為晶元設計、晶元製造和晶元封裝測試三部分，其中晶元製造對技術水平和裝置要求最高。 在晶元生產中，光刻工藝佔20%以上，因此光刻機被稱為最重要的半導體裝置。
雖然荷蘭不想參加晶元競爭，但在美國的一再施壓下，最終決定從9月1日起限制半導體裝置的出貨。 但在制定出口管制規則的過程中，荷蘭也在密切關注"理由"1980DI未列入出口管制清單。
這也導致荷蘭的光刻出口管制程式僅涵蓋38nm工藝，而不是三方協議要求的45nm工藝。 無論如何，毫無疑問，荷蘭正在限制半導體裝置的**，這影響了ASML的收入和交付量。
ASML開始陷入困境了嗎？
由於全球晶元需求下滑，各大晶元廠商減少晶元代工廠訂單，導致台積電、三星等晶元代工廠開始減產，甚至台積電產能利用率降至70-80%，四台EUV光刻機不得不停產。
自然，光刻機等半導體裝置減產導致需求下降，因此台積電等廠商不僅減少了光刻機的訂單，還推遲了光刻機的交付。 此前，台積電宣布：推遲向主要裝置製造商交付裝置。
這也導致ASML在許多市場的最大交易量急劇下降。 雖然許多其他成熟的工藝晶元代工廠減少了裝置採購，但ASML也受到了影響。
從目前全球市場形勢來看，中國市場對半導體裝置的需求仍然不小。 一方面，中國晶元產業發展迅速，中國設定了到2024年晶元國產化率達到70%的目標，在中國市場的支援下，中國晶元廠商發展迅速，對光刻機的需求也在逐漸增加。
另一方面，美國、日本和荷蘭簽署限制半導體裝置**的三方協議，為中國製造商創造了緊迫感，許多晶元製造商建立了光刻機等半導體裝置的庫存，進一步刺激了需求。
從根本上說，這意味著ASML仍然需要向中國市場運送大量半導體裝置才能維持運營**。 因此，ASML在獲得**許可證後，開始加速向中國市場交付光刻機。
ASML沒想到，在中國市場實現國產替代後，國內光刻裝置廠商發展迅速，清華大學前段時間發表的一篇文章指出了光刻機廠化技術的可能性。
光刻廠？中國已經迎接了挑戰。
此前，中國半導體裝置製造商上海微電子宣布在28nm工藝光刻技術方面取得突破，將於2024年底或2024年初交付國內市場。 從本質上講，這意味著中國已經實現了成熟工藝光刻技術的國產替代。
此外，清華大學此前發表的《穩態微束光束原理的實驗演示》一文指出，可以嘗試使用帶有穩態微束集電極的大型SSMB-EUV光源來分割光束，從而將光源分布到數十台甚至數百台光刻機上。
雖然這種方法成本高昂且移動性較差，但它可以快速解決光源問題，並快速提高效率和生產力。 從根本上說，這意味著中國已經進入了乙個新階段，EUV光刻機的國產化只是時間問題。
附言。 由於三方協議限制了光刻機在荷蘭的交付，ASML陷入困境，並逐漸失去中國市場。 關鍵是中國發明了光刻機廠的概念，解決了光刻機裝置的問題。