泰京科學儀器1200四區坩堝活動管式爐

產品概述：

OTF-1200X-IN-HPCVD 是一款 4 區管式爐，可在爐管內移動（由步進電機控制），所有電氣元件均通過 UL met CSA 認證。

爐管外徑50mm，裝置最高工作溫度1200°C，各溫區長度100mml，各溫區由獨立的溫控系統控制，可設定50個公升溫和降溫程式，控溫精度+-1。

樣品臺或坩堝在爐管中的位置和溫度通過觸控螢幕數字控制器進行控制。

該裝置可在各種氣氛中進行快速熱處理，例如混合物理化學沉積 （HPCVD）、快速熱蒸發 （RTE） 和水平布里奇曼晶體生長 （HDC），用於下一代晶體研究。

產品特點：爐膛配有步進電機，通過觸控螢幕數字控制器將樣品臺或坩堝移動到爐管內。

最高溫度可達1200°C。

雙層殼體結構，帶風冷系統，可有效降低殼體表面溫度。

內爐表面塗有美國進口高溫氧化鋁塗層，可提高裝置的加熱效率，延長儀器使用壽命。

基本引數：最高溫度：1200°C（30min） 工作溫度：1100°C • 推薦公升溫速率：10min • 加熱區長度：總長400mm，四個加熱區，每個加熱區長度100mm • 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金 • 電壓：220V • 最大功率為：35KW•75mTorr溫控系統可通過機械幫浦達到：

溫度由PID調節，可設定50級公升溫降溫程式 • 溫控儀表過熱、斷耦保護 • 儀表控溫精度：+-1 • 熱電偶型號：K型。