釓靶材是一種用於濺射鍍膜工藝的材料，主要由金屬釓（GD）和其他合金元素組成。 它是一種銀白色金屬，具有延展性，熔點1313°C，沸點3266°C，密度79004g/cm3。我們的釓靶材具有很高的純度，通常為 999%以上。 釓靶材需要具有高密度，這通常是通過高溫燒結工藝實現的。
釓靶材特性。
釓靶材形狀：平面靶材，異形定製。
釓靶純度：3n
釓靶材尺寸：根據圖紙加工或定製。
我們還可以提供金屬釓塊、釓方塊、釓顆粒等
釓靶材製備工藝。
原料準備：根據成分要求，根據要求製備的釓靶材，準確稱量所需的釓粉。
混合：稱重的釓粉在球磨機中均勻混合，以確保元素之間的良好分散。
輪廓：將混合後的粉末通過冷等靜壓或成型壓制成所需形狀，得到粉末壓制毛坯。
燒結：將粉末壓機坯料置於高溫燒結爐中，在一定的溫度和氣氛下燒結，使粉末顆粒之間形成冶金鍵，得到高密度的釓靶坯料。 燒結溫度通常在1300-1500°C之間。
加工：燒結釓靶坯被加工成所需的尺寸和形狀。
表面處理：加工後的釓靶材進行表面處理，如清洗、拋光等，以提高其表面質量。
檢波：對製備好的釓靶材進行密度、硬度、純度等效能測試，確保其符合使用要求。
上圖為釓靶材的材料分析報告。
釓靶材應用。
光學薄膜：釓靶材廣泛用於光學薄膜的製備，如反射膜、抗反射膜、束膜等。 這些光學薄膜可以應用於雷射器、光學儀器、顯示器和其他裝置，以改善其光學效能。
電子薄膜：釓靶材用於製備電子薄膜，如電容器、電阻器、磁性儲存器等電子元件。 這些電子薄膜具有良好的電氣效能和穩定性，廣泛應用於電子裝置和積體電路中。
磁性薄膜：釓靶材可用於製備磁性薄膜，如磁記錄介質、磁感測器等。 這些磁性薄膜在資訊儲存、磁性檢測等領域具有重要的應用。
釓金屬的其他應用。
磁性材料：金屬釓具有良好的磁性能，可用於製備各種磁性材料，如磁記錄介質、磁感測器等。 在資訊儲存、磁力探測等領域具有重要應用。
耐火材料：金屬釓可用於製備高效能耐火材料，如高溫爐襯、火箭發動機噴嘴等。 這些耐火材料在高溫環境下具有良好的穩定性。
電子元器件金屬釓可用於製備電子元件，如電阻器、電容器等。 這些電子元件在電子裝置和積體電路中有著廣泛的應用。
研究實驗：釓金屬作為一種稀土元素，具有獨特的物理化學性質，常用於科學研究實驗，如材料科學、化學反應機理研究等。
其他應用：金屬釓還可作為催化劑、光催化材料、磁記錄裝置等領域的原料。
總之，金屬釓在電子、光學、醫療、核能等領域具有廣泛的應用前景。 隨著科學技術的發展，其應用領域將不斷擴大。