28nm光刻機的技術突破，從產業鏈的變化中備受關注

28nm光刻機的技術突破，從產業鏈的變化中備受關注

ASML始終掌握高品質光刻技術的生產工藝。 就7NMEUV光刻機而言，ASML是世界上唯一一家可以生產這種光刻機的公司。 在DUV光刻機市場，ASML也佔據了14nm-45nm DUV光刻機市場的大部分。

毫不誇張地說，只要ASML停止向晶圓代工廠供應光刻機，晶圓代工廠的晶圓生產就會癱瘓。

目前的情況也是如此：2024年，中芯國際斥巨資從ASML購買了一台EUV光刻機。 中芯國際一旦收購了這台EUV光刻機，就能夠走向7nm晶元的自主化。

就在ASML準備將EUV光刻機運往中芯國際時，美國出面干預，阻止ASML出口光刻機。 此後，中芯國際的7nm晶元生產一直陷入困境。

2024年初，前美國拉扯日本和荷蘭結成封鎖聯盟，從而限制中國企業獲得DUV光刻機，這意味著中國獲得高階光刻機的機會將再次減少。

此後，荷蘭ASML公司發表宣告：出口DUV裝置需要許可證。 顯然，ASML已經開始追隨美國的腳步，正式限制中國獲得光刻裝置。

為此，中國半導體企業必須在光刻技術領域實現相關技術的突破。

據介紹，哈爾濱工業大學團隊已成功研製出超高速精密雷射干涉儀，可用於28nm至350nm光刻技術的整合開發和效能測試，並獲得國家28nm光刻技術的技術支援。

繼哈爾濱工業大學團隊在28nm光刻技術上取得突破後，上海微電子的28nm光刻技術也傳來了好訊息。 據多份**報道，上海微電子28奈米光刻機研究預計將於2024年下線並進行評估。 如果28nm光刻機評測通過，中國28nm光刻機將實現自主化，不再受制於第三方。

在國家28奈米光刻技術即將取得突破，28奈米光刻技術有望成為下一條生產線的情況下，出現了乙個奇怪的現象。

前段時間，ASML董事溫寧科開始改調：中國是半導體產業發展不可或缺的。 從需要獲得DUV光刻機出口授權，到中國對半導體產業發展不可或缺的事實，Wennink的說法很奇怪！

為什麼會發生這種奇怪的現象？我認為這有幾個原因。

首先，據不完全統計，中國大陸佔ASML光刻機需求的20%，是ASML最大的客戶。 失去這個市場，ASML的營收將大幅下降，這是ASML不願意看到的。

因此，即使ASML明確表示DUV光刻機出口需要許可證，ASML也必須考慮到我國的態度。

其次，ASML對中國在光刻領域的自主研發能力感到擔憂。 此前，Wennink曾表示，如果限制向中國企業出口EUV裝置，那麼中國企業將主導EUV光刻技術5年。 15年後，ASML將失去EUV光刻技術的話語權。

不難看出，溫寧科擔心中國會在光刻機領域實現自主突破，進而打破ASML在光刻機市場的壟斷。

第三，上海微電子突破28nm光刻技術，預計到2024年實現28nm光刻技術下線，可見我國具備自主生產28nm光刻技術的能力。

眾所周知，28nm晶元可以滿足90%以上的產業發展需求。 上海微電子的28nm光刻機下線了，中國的光刻機沒有危險，ASML的光刻機也將毫無用處。 面對這種情況，溫寧科改弦易轍是情理之中的。

事實上，在上海微電子即將實現90奈米光刻機的時候，ASML就發布了對90奈米以下光刻機的出口限制，這讓上海微電子90奈米光刻機的研發陷入癱瘓，拖延了很長時間。

原來，中國光刻技術一到突破階段，ASML就放棄了一些限制，允許中國企業放棄光刻技術的研發，所以中國企業已經很久沒有購置光刻機了。

如今，中國已經掌握了生產28nm晶元的成熟工藝，華為長期參與28nm晶元的設計。 只要上海微電子能夠成功研製出28奈米光刻機，中國就完全有資格自主生產28奈米晶元。

無論ASML的立場如何，我們都必須堅定不移，不要被ASML的言論所迷惑。 正如《人民**》所說：基礎技術買不來，來不來。 我不能要求它。 只有自主研發才會受到影響。 顯然，國產光刻機有能力不被扼殺。