近日，中國大陸從荷蘭進口光刻裝置價值突飛猛進，同比增長1000%。 這一數字明顯高於前幾個月進口這個數額引起了很多人的關注和質疑。 一些網友開始質疑這是否意味著國產光刻機無法滿足我們的需求？ 然而，事實並非如此。
中國大陸晶元製造過程非常複雜和不同晶元應用場景有不同的工藝要求。 例如，它用於飛彈、衛星等領域晶元需要有較高的可靠性、安全性和抗輻射性，對效能要求相對較低，因此通常採用55nm和60nm以上的工藝。 應用程式在智慧型手機上晶元它需要高效能、低功耗和整合 CPU、GPU 等isp、NPU等功能，一般採用7nm以下工藝。 目前，國內光刻機只能滿足90nm、110nm和280nm的光刻需求，55nm經過多次製造**晶元但良品率會降低，洩漏率會提高，因此更適合於航空航天、工業工業控制等對工藝要求不高的領域晶元
但是，我們每天使用的手機晶元、電腦CPU、人工智慧晶元等等光刻機為了滿足這些要求，目前主要是荷蘭人能夠滿足這些要求asml公司。 asml成立於 1984 年，業務遍及全球光刻機該領域的龍頭企業，其市場占有率已達到85%。 公司有6種型別，包括G線、I線、KRF、ARF、ARFI、EUV等光刻機它可以滿足每個場景的不同工藝要求。 其中，ARFI光刻機（即滲透 DUV。光刻機）可以製作7nm晶元而EUV光刻機這是目前最複雜的光刻機，可在7nm以下製造晶元
asml在光刻機該領域的主導地位是毋庸置疑的，幾乎所有晶元製造商，包括：台積電三星英特爾微公尺等，正在使用asml之光刻機。這就是為什麼中國大陸需要很多進口荷蘭光刻裝置的原因。
然而，值得注意的是，荷蘭最近出台了關於先進半導體裝置出口管制的新規定。浸沒式光刻機出口限制適用。 這一限制旨在防止中國獲得14nm以下的邏輯晶元、高階DRAM晶元以及 128 層及以上的 NANDFLash 等，這些適用於：智慧型手機、個人電腦、人工智慧晶元也是儲存空間的重要組成部分。
這項對中國的限制性措施軍事而工業領域影響不大，但對高科技領域影響非常大。 高技術是目前各國競爭的主要領域之一，對中國來說，錯失高新技術發展機遇將產生嚴重後果。 是的分析師思考，限制光刻機出口是對華為等中國科技巨頭實施制裁的一種手段，但其實際目的是限制中國高科技技術的發展。
因此，為了減少對數進口中國必須增加國內產量光刻機研發工作。 雖然對於國內光刻機公開資訊非常有限，但我們可以肯定它是國內的光刻機研發一直沒有放棄，研發進度越來越快。 早在2022年，就有官方報道稱，中國的光刻機研發已進入實驗室檢測階段，並取得了一定的研發成果。 此外，國內一些企業也在投入資金和人力光刻機研發，如：中芯國際、華巨集半導體等
雖然目前國內光刻機仍然無法使用asml之光刻機比較，但中國在晶元半導體行業一直非常強勁。 例如中國晶元領先的製造公司中芯國際近年來，我們一直在增加投資，以生產自己的14nm和12nm晶元實現規模化生產和成功出貨。 此外，中國**還出台了一系列政策，鼓勵本土企業進駐晶元投資和創新領域。
因此，儘管目前中國仍然需要很多進口光刻機，但國內光刻機並非沒有希望。 與中國一起晶元在製造領域不斷投入創新，相信國內生產光刻機研發的進展會越來越快，最終能夠滿足國內市場的需求。