中國海關資料顯示，2023年12月，中國大陸從荷蘭進口光刻裝置金額達到11億美元，同比增長1000%。 隨著10月的67 億美元和 82 億美元與進口數額大幅增加。 全年進口半導體裝置總量也接近400億美元。 這一資料引發了網友的質疑，這是否意味著國內生產光刻機前景不佳？
然而，事實並非如此。 雖然國內光刻機在滿足特定流程方面存在一定的侷限性，但這並不意味著它們是國內的光刻機希望已經破滅。 事實上，國內光刻機該國的研發一直在進行中晶元製造工藝的發展在推動這一點方面發揮著重要作用。
光刻機如半導體核心裝置製造工藝，適用於不同型別晶元對製造有不同的要求。 由於晶元型別和流程非常複雜，不同的使用場景決定了其流程的差異。
例如，用於飛彈、衛星等晶元需要更高的可靠性、安全性和抗輻射性。 這種晶元通常使用55nm、60nm或更多工藝。 並用於：智慧型手機等場景晶元，需要更高的效能和更低的功耗，並整合了 CPU、GPU 等isp、NPU等功能。 這種晶元通常採用7nm以下過程。
目前，這是可能的大規模生產國產商品化光刻機主要上海微電子600系列光刻機。這種光刻機可滿足90nm、110nm和280nm的需求光刻需求，並通過多**方式製造 55nm晶元。但是，良品率會降低，洩漏率也會提高，適用於航空航天、工業工控等要求不高的工藝晶元場景。
為智慧型手機晶元、計算機 CPU 和 AI晶元和其他更精確的工藝晶元國內光刻機無法滿足需求。 此時，asml作為全球光刻機龍頭企業發揮著重要作用。 asml有很多型別光刻機，包括RFI光刻機跟EUV光刻機，可以滿足各種場景的需求晶元需求。
asml它成立於1984年，擁有85%的市場份額，控制著全球90%以上的領土浸沒式DUV光刻機和 100%。EUV光刻機。幾乎所有晶元製造商，包括台積電、三星、英特爾等，無一例外地使用asml之光刻機
2023 年 6 月 30 日，荷蘭推出了先進的半導體關於裝置出口管制的新規定禁止未經許可從荷蘭出口零件浸沒式光刻機。儘管此限制在以下方面：軍事而工業部門短期內影響有限，但對高科技該領域的發展影響很大。
荷蘭出口限制光刻機主要asml2050i 和2100i，這兩個光刻機廣泛應用於28nm，14nm、10nm 和7nm過程晶元製造，理論上也可以製造5nm晶元。這意味著中國可能無法獲得它14nm以下邏輯晶元、高階DRAM晶元以及 128 層及以上的 Nandflash。
儘管一些分析人士認為光刻機極限是對的華為等等科技對巨頭的制裁，但目的是限制高科技科技中國發展在高位科技域依賴關係進口。因此，為了打破這一限制，中國必須積極推動國內生產光刻機研發提高自身工藝技術水平。
臉光刻機進口受限情況，中國已加大國內產量光刻機研發力度推動自主創新。 例如，江蘇華信光刻機該研究所成立於2020年，旨在研發和生產國內產品光刻機提公升中國在半導體製造領域的自主能力。
此外，中國科學院微電子學該研究所也是國產的光刻機該領域已經取得了突破。 他們與江蘇**合作，共同投資20億元人民幣成立中國第一家國內單位光刻機製造和應用研發中心有自己的開發智財權之光刻機
雖然目前國內光刻機過程的水平也與asml國際製造商之間存在一定的差距，但中國在光刻機該領域的研發和技術進步仍然值得期待。 與中國半導體行業的發展和技術水平的提高，國內光刻機預計未來將取得更好的突破。
綜上所述，雖然很多進口光刻機它可能暫時影響了國內生產光刻機市場占有率，但不代表國內光刻機前景令人擔憂。 光刻機應用場景和需求非常多樣化，國內光刻機就具體流程而言，仍有一定的市場影響。 與此同時，中國也在增加國內產量光刻機研發工作，並取得了一定的技術進步。 與中國半導體行業發展，國內光刻機預計未來將取得更好的突破。