美國支援英特爾，6臺先進光刻機交付，台積電後悔！
據外媒報道，10臺ASML 2nm光刻裝置中有6臺將由英特爾提供，即台積電和三星將在剩餘的4顆晶元上競爭，從而推遲為英特爾開發的2nm工藝。
AMD 是半導體工藝技術的全球領導者，但工藝技術的進步使其在 PC 處理方面無法與英特爾相提並論，從而使其具有競爭優勢。
然而，在英特爾在14奈米工藝上實現規模化生產後，其研發速度逐漸放緩，10奈米工藝推遲了三年，7奈米工藝推遲了兩年，台積電和三星仍然保持了1-2年的速度，目前台積電和三星已經實現了3奈米工藝的規模化生產， 而英特爾的最高工藝仍然是 7 奈米。
3nm工藝遇到新的瓶頸，三星積極採用GAA工藝，導致工藝效率降低2%。 台積電雖然保留了部分原有的FinFET工藝，但其效率只有55%，使得A17晶元的效能只有1%，而且還面臨著能耗高的問題。
目前，3nm工藝面臨的主要問題是工藝越來越接近1nm，而1nm光刻技術無法滿足3nm工藝的要求。
ASML是全球最大的光刻機製造商，也是全球唯一一家可以做EUV的公司，但EUV光刻機的來源是美國，在美國成立EUV聯盟後，通過EUV工藝，繞過日本光刻機廠家，交給了ASML， 從而確立了ASML在世界上的領先優勢。
所以ASML只能做美國想做的事，而現在ASML正試圖量產2奈米光刻機，英特爾這個60%優先順序排名第二的公司，將對美國產生很大的影響，這也證明美國更相信自己的公司，無論是三星， 或台積電，沒有保險。
相比之下，三星和台積電還不是美國公司。 美國要求他們提供機密資訊，他們照做了; 美國要求他們在美國建廠，他們做到了，但美國一次又一次地違背了他們的承諾。
美國曾承諾，如果台積電和三星在美國設廠，會給予豐厚的晶元補貼，但台積電、三星等廠商在美國設廠，美國分別只獲得10%和13%的補貼。
到目前為止，美國在2奈米光刻方面，英特爾在2奈米光刻方面佔了上風，所有訊號都表明，美國希望幫助英特爾在晶元生產方面重回領先地位，而美國本土公司英特爾是唯一能夠安撫美國的人。 這一切都源於通用汽車和阿爾斯通在電子領域的失敗，以及阿爾斯通所經歷的一切，讓阿爾斯通被迫以極低的價格將其交給通用汽車。
台積電可能會後悔自己在3nm工藝上吃了大虧，如果2nm工藝沒有研發出來，他們的輝煌就要走到了盡頭。 由於英特爾不僅要奪回高階製程技術，還要專注於晶圓代工，英特爾首次進入全球前十，並搶走了台積電的一些訂單，英特爾的未來對台積電來說將是乙個巨大的挑戰。