目前，世界上唯一可以製造EUV光刻機的製造商是荷蘭的ASML。
晶元進入7nm後，需要使用EUV光刻機，所以這幾年，台積電、三星、英特爾等廠商都在嘗試從ASML購買EUV光刻機。
誰搶到更多的EUV光刻機，誰的產能就會更高，所以接下來訂單的產能基本穩定。
上乙個當然是台積電，它顯示，自ASML生產EUV光刻機以來，截至2023年底，共出貨了230多台EUV光刻機。
在230多台EUV光刻機中，僅台積電就佔了50%以上，其他廠商加起來還不到50%，可見台積電的實力有多強。
然而，最近幾天情況可能發生了變化，因為ASML最先進的EUV光刻機，用於2nm晶元製造的Twinscan EXE：5200，是由ASML交付給英特爾的，而不是台積電。
這個 exe：5200 和之前的 exe：5000 最大的區別在於數值孔徑不同，從 033NA增加到055NA，數值孔徑表示系統可以收集和聚焦多少光，數值孔徑越大，收集的光越多，解像度越高。 所以 055Na數值孔徑光刻機可用於2nm甚至14nm晶元光刻。
此前，ASML的首席執行官表示，在0在55NA之後，也就是NXE：5200之後，ASML可能無法推出新一代的EUV光刻機，而這項技術已經達到了極限。
這個NXE：5200的**約3億美元，約合人民幣21元5億元，晶圓加工速度是每小時220片12英吋晶圓，一塊晶圓可以切割，其次是500顆左右的2nm晶元，理論上這樣的光刻機，一年可以加工上億個晶元。
ASML交給了英特爾，而不是台積電，有人說很可能是台積電目前不需要它，英特爾更需要它，但我認為這個理由不應該成立，台積電肯定需要它。
很有可能是英特爾背後的美國在施壓，畢竟美國現在想要重振晶元製造產業，而英特爾正在提出IDM20計畫，要想分一杯羹晶元代工，ASML必須聽美國的話，給誰不給誰，ASML不算，美國說了算。
英特爾此前吹噓將在2024年獲得20A工藝，也就是2nm，而台積電要到2025年才能獲得2nm，所以英特爾想搶占先機，於是搶到了第一台2nm光刻機。
接下來，台積電要加油了，如果真的在2nm上被英特爾搶占，那麼全球晶元代工格局或許被改寫。