英特爾棄高數值孔徑EUV光刻機，能否超越台積電？

英特爾棄高數值孔徑EUV光刻機，能否超越台積電？

日前，ASML向英特爾下單了全球首颱EUV光刻機，引起了業界的廣泛關注。 就在大家以為英特爾已經擊敗台積電，用先進的EUV光刻裝置量產18A工藝的時候。

英特爾首席執行官派屈克·辛格（Patrick Singer）表示，英特爾不會在18A處理器中使用高解像度EUV光刻技術，但會保留到下乙個處理器"主要是"節點。

18 A 是指英特爾的 18nm工藝是公司重回晶元技術領先地位的主要工藝，也是2nm及以後工藝的主要裝置。 但是，為什麼英特爾不在關鍵節點上使用高頻 EUV 光刻技術呢？ 如果沒有EUV光刻技術的幫助，英特爾如何在2025年重新奪回晶元技術的領導地位？

為什麼英特爾不使用 18A 高氮 EUV 工藝？

首先，我們來看看高數值孔徑型，這是一種具有超高數值孔徑的極紫外光刻技術。 這意味著它可以提高解像度並降低生產成本。

在晶元生產過程中，解像度直接決定了晶元上電路的細度，而生產成本是決定產品競爭力的重要因素。 因此，極高靈敏度紫外光刻的研究和應用是未來生產2奈米及以下晶元的基礎裝置。

不過，基辛格表示，出於風控原因，英特爾在18A工藝中沒有使用Gauna EUV技術。

基辛格認為，風險管理是英特爾將其國內行業提公升為世界領導者的重要組成部分。 高數值孔徑EUV光刻技術的引入可能會給英特爾的工藝開發和生產帶來不必要的風險。

根據基辛格的解釋，筆者總結了以下原因。

1.風險管理：英特爾可能認為，高數值孔徑EUV光刻技術的引入可能會帶來不必要的風險，因為它將使國內行業再次成為世界領導者。 因此，英特爾決定推遲下一代光刻技術的開發，以確保其穩定性和可靠性。

2.技術成熟度：雖然非常高的奈米紫外光刻技術被認為是未來晶元生產的基礎技術，但其技術成熟度可能還達不到英特爾的標準。 英特爾可能希望在技術投入生產之前確保該技術的成熟度和可重複性。

3.生產成本：高解像度 EUV 光刻機的高購置和維護成本可能會給英特爾的生產成本帶來壓力。 英特爾認為，現階段推出高NA EUV光刻機將影響公司的盈利能力。

當然，這一決定也引發了業界對英特爾技術未來發展的關注，以及英特爾是否會像回歸工藝領域一樣成為關注的焦點。

如果沒有高解像度EUV NA光刻技術的幫助，英特爾怎麼可能超越台積電，重新奪回第一的位置？

英特爾制定"4 年 5 個節點"戰略，目標是以202518擊敗巨頭台積電成為晶元生產的領導者。 但是，英特爾從ASML購買的最後一台EUV光刻機並未投入使用。

沒有先進的裝置，英特爾靠什麼重新奪回世界第一？ 事實上，英特爾還有其他四個優勢。

英特爾可以進一步發展其系統級代工戰略，通過為晶圓生產、封裝、核心材料、軟體等提供一系列解決方案，確保在工藝技術方面的持續進步和領先地位。 此外，英特爾還可以與 43 家潛在客戶和綠色合作夥伴合作，測試和優化晶元設計。

英特爾可以利用架構創新來提高競爭優勢。 例如，英特爾的 RibbonFET、場場電晶體和 Powervia 反向電源技術可提高晶元效能、能效和可靠性，確保英特爾在工藝技術方面的領先地位。

3.即使不使用高數值孔徑 EUV 光刻技術，英特爾也可以通過不斷優化現有工藝來提高晶元效能。 例如，通過改進工藝流程，提高裝置效率，降低不良率，不斷優化工藝流程，使產品在工藝技術上具有競爭優勢。

4.英特爾可以與國內外知名企業、研究機構、高校等建立合作夥伴關係，共同開發新工藝。 通過與外部機構合作，英特爾可以獲得技術資源和人才支援，以促進工藝技術的持續創新。

畢竟，如果英特爾想在沒有高EUV光刻的情況下重新獲得晶元行業的領導地位，就必須做好準備，並在其代工戰略上投入更多資金。

那麼，您為什麼不認為英特爾現在正在使用高氮 EUV 光刻技術呢？ 歡迎發表評論。