日本半導體公司宣布了一些意想不到的事情！
業內人士表示，國內也在持續推進國產替代程序，上海微電子在28奈米光刻工藝上也取得了突破，預計2024年量產。
報道稱，從明年11月開始，日本對華半導體出口已經連續13個月下滑，直到上個月才首次出現上公升。
有趣的是，這些要求大多是針對半導體晶圓生產裝置的，引起了很多關注。 事實上，日本也參與了一項限制半導體裝置供應的三方協議。 日本對半導體產品的出口管制也被認為比荷蘭更嚴格——事實上，荷蘭已經向阿斯麥發放了近四分之一的供應許可證，阿斯麥在1月初撤回了兩台浸沒式深紫外光刻機。
一些行業專家說，日本的做法是一回事，也是另一回事。 表面上看，日本對其半導體裝置的供應有嚴格的控制，但實際上，日本已經開啟了向中國公司供應許可證的大門。 此外，尼康和佳能在日本使用的“中國專用版”光刻裝置的通用元件也已獲得許可。
日方看似削減了日本半導體裝置的供應，但實際上，日本半導體裝置廠商也明白，想要量產，就必須回到中國市場。 英特爾、台積電等晶元代工廠紛紛開始採購深紫外光刻機，而日本高階EUV光刻機也因產能不足而減產。
因此，對浸沒式深紫外光刻機的需求非常高，中國廠商是開發7nm至28nm工藝晶元晶圓的最佳廠商。 但是，隨著半導體產業的快速發展，如果日本廠商不能在工藝上取得突破，生產出更先進的光刻機及相關裝置，就會逐漸萎縮。
毋庸置疑，為了實現核心技術的徹底突破，中國將不得不放棄對美國和西方公司的幻想。 日本半導體裝置廠商雖然非常重視中國市場，但已經為他們預留了申請出貨許可證的渠道。 但是，沒有人知道運輸許可證何時會被撤銷。
如果我們想避免"項鍊"基本技能是必不可少的。 但好在，我國在光刻等半導體元器件方面取得了長足的進步，掌握了極紫外光刻的一些核心技術，取得突破只是時間問題。
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