2nm光刻機被移交給英特爾，價值1130萬美元，ASML不是台積電承接的！
目前，世界上唯一能夠生產EUV光刻機的製造商是荷蘭公司ASML。
EUV 光刻是 7nm 晶元的強制性要求，因此近年來台積電、三星、英特爾和其他製造商一直在尋找從 ASML 獲得 EUV 光刻的方法。
誰購買了更多的EUV光刻機，誰就會有很高的產能，下乙個訂單將基本穩定。
首先占上風的當然是台積電，資料顯示，自 ASML 開始生產 EUV 光刻機以來，到 2023 年底，EUV 光刻機的總出貨量剛剛超過 230 臺。
在230多家廠商中，台積電承擔了50%以上的EUV光刻任務，而其他廠商加起來不到50%，可見台積電的實力。
然而，情況可能在前段時間發生了變化，ASML最先進的EUV光刻機Twinscan EXE：5200，用於製造2nm晶元，已經由ASML而不是台積電交付給英特爾。
這個 exe：5200 和之前的 exe：5000 最大的區別是數值孔徑的差異，從 033Na 增加到 055na。數值孔徑表示系統可以收集和聚焦的光量，數值孔徑越大，收集的光越多，解像度越高。 因此，數值孔徑為 0一台 55na 的光刻機可用於 2 奈米甚至 1 奈米4奈米晶元的光刻。
ASML的首席執行官此前曾表示，在0在55NA或NXE：5200之後，ASML可能無法引入下一代EUV光刻技術，這已經達到了極限。
這個NXE：5200**約3億元，約合21元5億元，晶圓加工速度為每小時220片12英吋晶圓，一塊晶圓可以切割出約500顆2奈米晶元。
ASML把它交給了英特爾，而不是台積電。 有人說台積電目前可能不需要它，英特爾更需要它，但我認為這個理由站不住腳，台積電肯定需要它。
很有可能美國在幕後給英特爾施壓，畢竟美國現在想要重振晶元製造業，而英特爾已經提出了IDM20計畫，他們想在晶元代工領域分一杯羹，ASML要聽美國的話，不給誰，ASML說不給，美國就說不。
英特爾此前曾吹噓將在2024年實現20a工藝（即2nm），而台積電要到2025年才能實現2nm，因此英特爾希望搶占先機，並購買了第一台2nm光刻機。
接下來，台積電應該振作起來，如果英特爾的2nm真的能提前實現，那麼全球晶元代工標準可能會被改寫。