近日，中國大陸晶圓廠與某手機巨頭合作利用DUV（深紫外）技術製造5nm晶元的訊息在**中廣為流傳。 雖然目前還無法確認這一訊息的真實性，但結合林本健先生此前對浸沒式光刻機的記載，這一訊息還是值得關注的。 林本健表示，浸沒式光刻機已經具備製造5nm晶元的能力，但成本略高，需要進行四次**。 不僅如此，許多專業人士指出，浸沒式光刻的工藝水平限制絕不侷限於7nm，甚至可以達到2nm晶元的製造。 林本健也表達了類似的觀點，指出浸沒式DUV光刻技術最多可以實現六種光刻模式，可以實現進一步的工藝突破。 然而，隨著工藝的不斷推進，DUV技術需要更多地使用，這將大大降低產量和製造效率，從而增加成本。 因此，在EUV（極紫外）光刻機的情況下，EUV紫光被用於製造7nm晶元，因為EUV更具成本效益，不需要多路復用**，並且與DUV相比具有更低的製造成本。 但是，大家都知道，中國目前買不起EUV光刻機，所以即使難度大、成本高，我們也只能繼續用DUV光刻來製造比7nm更先進的技術。 因此，關於使用DUV技術製造5nm晶元的報道並不牽強，而且很有可能。 甚至有一天，我們可能會聽說使用DUV技術製造3nm晶元，這可不是無稽之談。 雖然目前還沒有製造出5nm晶元，但一旦取得突破，將意味著美國的制裁將基本上以失敗告終。 去年，美國**的政策旨在將中國的邏輯晶元限制在14奈米。 不過，隨著今年相當於7nm晶元的到貨，再加上未來有相當於5nm的晶元到貨，可以毫不誇張地說，這一封控政策已經徹底失敗。 此外，目前全球採用5nm及以下工藝的晶元，除了蘋果的A17系列晶元、M3系列晶元，以及高通、聯發科最新的SoC外，其他晶元均採用5nm或更先進的工藝。 5nm及更先進的工藝晶元佔全球晶元市場份額的97%以上。 因此，只要我們能用5nm工藝製造晶元，就意味著全球97%的晶元需求都能得到滿足，只有3%的晶元製造無法實現。 在這樣的市場形勢下，我們還需要擔心封控打壓嗎？所以，如果這顆5nm晶元真的能夠順利推出，相信美國的封鎖計畫將成為乙個徹頭徹尾的笑話，不再需要存在。 同時，這也意味著中國晶元產業將正式騰飛，您怎麼看？
作為當今世界科技競爭的重要領域之一，半導體晶元的製造和研發一直備受關注。 尤其是在中美科技戰的背景下，中國晶元產業的崛起備受關注。 近日，中國大陸晶圓廠採用DUV技術製造5nm晶元的訊息引起廣泛關注。 不過，雖然這些訊息尚未得到證實，但我們不妨以林本建先生對浸沒式光刻機的看法為契機，**探討DUV技術在5nm晶元製造中的可能性。
以浸沒式光刻機為代表的DUV技術在半導體晶元製造中一直發揮著重要作用。 然而，在過去的工藝發展中，DUV技術一直受到極端解像度的限制，因此被認為無法製造7nm以上的晶元。 然而，浸沒式光刻機之父林本健的觀點卻引起了人們的注意。 他表示，浸沒式光刻機可以通過做多個**來製作乙個5nm的晶元，但成本更高。 同時，專業人士也同意這一點，並認為浸沒式光刻機的工藝水平限制絕不侷限於7nm，甚至可以達到2nm。 因此，可以合理推測，借助DUV技術製造5nm晶元並非不可能。
然而，雖然 DUV 技術在 5nm 晶元製造方面具有潛力，但它也面臨著一些限制。 首先，DUV技術需要多次執行，這可能導致製造成本和良率問題。 多次**意味著製造工藝更複雜，更容易出現缺陷，從而降低了晶元的良率。 其次，隨著工藝的進一步推進，DUV技術的數量將進一步增加，這將進一步降低製造效率和成本效益。 因此，DUV技術並不是乙個長久之計，隨著工藝的發展，它將被更先進的光刻技術所取代。
與 DUV 技術相比，EUV（極紫外）技術被視為晶元製造領域更先進的選擇。 EUV技術因其使用較短波長的光源，以及次數少、良率高、成本低等特點而備受關注。 然而，正因為如此，全球EUV光刻機嚴重短缺，使得許多地區無法購買EUV光刻機。 中國作為其中之一，仍然無法獲得EUV光刻機。 因此，即使面對困難和高成本，我們仍然需要依靠DUV技術來繼續推動晶元製造技術的發展。
在當前的全球晶元市場中，只有蘋果的A17系列晶元、M3系列晶元，以及高通、聯發科最新SoC等少數產品採用sub-5nm工藝。 絕大多數其他晶元都基於5nm和更成熟的工藝。 換言之，採用5nm及以上工藝的晶元佔全球晶元市場的97%以上。 因此，只要我們能成功製造出5nm工藝的晶元，就有能力滿足全球晶元市場97%的需求。 從這個角度來看，中國晶元產業的崛起將是必然的。
回顧去年美國的封鎖計畫，其目的是將中國的邏輯晶元限制在14nm工藝層面。 然而，隨著今年相當於7nm晶元的上市，以及未來相當於5nm晶元的製造，我們不禁想知道這種封鎖政策取得了什麼樣的效果可以毫不誇張地說，這種封鎖政策在很大程度上可以被視為失敗。 一旦我們成功製造出5nm晶元，我們將徹底宣告美國封鎖計畫的失敗。 更重要的是，這將正式標誌著中國晶元產業的騰飛。 所以，只要這顆5nm晶元能夠如期推出，相信美國的封鎖計畫就成了徹頭徹尾的笑話，不再需要了。 中國晶元產業將迎來新的發展時代。
雖然我們關於中國大陸晶圓廠採用DUV技術製造5nm晶元的訊息還有待證實，但從林本建先生對浸沒式光刻機的看法和業內人士的評論來看，這並非無稽之談。雖然 DUV 技術在製造 5nm 及以上的晶元方面面臨一些挑戰，但在目前 EUV 光刻機不可用的情況下，DUV 技術仍然是推進晶元製造技術的關鍵。 5nm晶元一旦製造成功，將意味著中國晶元產業向前邁出了堅實的一步，也將成為中美技術競爭的重要組成部分。 因此，我們期待這款5nm晶元的成功，相信未來中國晶元產業將騰飛。