“鎖定”14nm晶元？來自中國企業、外媒的新訊息：ASML兌現承諾。
眾所周知，由於外部環境的變化，我國已經開始大力發展半導體晶元產業。 同時，晶元製造工藝也開始實行本土化OEM生產，國內光刻機企業等對晶元製造裝置的需求開始增加。
2024年，中芯國際與荷蘭ASML公司簽訂了價值12億美元的裝置採購合同，引發了美國對晶元裝置的擔憂"鎖"！"在 14nm 工藝上。
今年上半年，美國、日本和荷蘭達成三方協議，進一步收緊先進晶圓製造裝置的出貨量。 作為全球最大的光刻機製造商，ASML在荷蘭的態度也與之前發生了很大變化。
2024年，在華為晶元制裁的第一年，荷蘭ASML表示，DUV光刻機等裝置的出貨不會受到美國新規的影響，未來仍可被中國企業用於改進DUV光刻系統。
前段時間，荷蘭ASML向外界透露，三方協議已經達成，未來新規的實施，會讓荷蘭ASML**的部分DUV光刻裝置感受到新規的影響，但新規的實施需要時間，可能不會影響公司今年的營收。
除荷蘭的ASML外，目前有三家廠商可以自主設計和製造光刻裝置，分別是日本的索尼和佳能以及中國的上海微電子。 到目前為止，國產開放式光刻機的量產水平僅為90奈米，一些先進的28奈米裝置仍處於研究階段。
因此，在國家光刻裝置突破之前，如果荷蘭ASML出貨DUV光刻裝置，對國家晶元代工行業的擴張非常關鍵。
據荷蘭ASML公司介紹，此前，對於新規的申報，包括NTX1980I型號在內的舊裝置的出貨將不受新規的影響，裝置型號的單**精度為38奈米，14奈米工藝晶元的生產可以通過多**技術實現。 但是，不管你說不說，重要的是要看看ASML是怎麼做到的。
中國企業正式發布新訊息。
近日，中國企業正式得到新訊息，荷蘭ASML在全國半導體專案競賽中，6次中標光刻裝置。 去年，該公司還向外界公開展示了晶元裝置的競爭情況。 當時，除了光刻裝置外，大多數裝置製造商都來自中國。
此次ASML中標，裝置包括四台KRF掃瞄光刻機和兩台ARF掃瞄光刻機。
ASML加快了國內市場的擴張，中國企業也派出了更多的光刻裝置。 據了解，荷蘭ASML加速出貨國內市場主要有三個原因：
首先是荷蘭ASML提到的其他客戶需求下降，台積電、三星等晶圓廠也存在不同程度的產能過剩。 主要原因是國內晶元進口數量大幅下降，去年國內晶元進口數量下降了970億片，僅今年上半年前四個月就下降了390億片。 如果ASML想要維持收入，就需要加快新市場的開發，而中國的需求正是ASML現在所需要的。
其次，國產光刻裝置的發展正在加速。 如果ASML放棄國內市場，中國企業將提前推出相關替代產品。 屆時，即使這部分裝置的效能還不成熟，也會有一些廠家在相關裝置投產後，嘗試提高關鍵引數，加速國產光刻裝置的迭代。 ASML也將失去更多的市場份額，這是對方不願意看到的局面。
第三，美國晶圓裝置製造商開始搶占中國市場。 在荷蘭ASML與泛林集團、科萊三方協議破裂之際，美國積體電路裝置製造商收到美國商務部的澄清函，對外界表示"此前，由於對相關條款的誤解，為中國企業終止了數千萬美元的裝置**，但現在已經明確，可以繼續向中國企業提供相關裝置**。 "
事實上，這已經不是第一次發生類似情況了，在晶元禁令的早期，美國公司AMD和英特爾率先獲得了向華為發貨的許可。 隨後，高通也表示將繼續給華為**4G晶元，如果ASML放棄出貨半導體裝置，市場份額很可能會被美國公司搶走。
總之，正如外媒所說，這次的荷蘭ASML是"動手實踐"完成。 承諾加快布局中國市場，向國內市場交付更多光刻裝置。
不過，這對國內晶元裝置廠商來說並不是乙個好訊息，ASML在加快相關裝置發展的同時，也在加快相關產業的發展。
未來，只有加快國產裝置的開發，ASML才能向國內市場提供更先進的裝置。 因此，我們不能放鬆警惕，必須加快自主光刻機的研發進度，全面解決積體電路裝置難題"卡脖子"國產光刻機等裝置的發展還有很長的路要走。