最近，3 月 5 日，英特爾宣布了乙個非常特別且有意義的開箱**，記錄了世界上第一台使用高數值孔徑極紫外 （EUV） 光刻技術的光刻機的到來，以及美國奧勒岡州希爾斯伯勒附近的工廠開始安裝。 歷史上“最昂貴”的高科技裝置是世界領先的半導體裝置製造商ASML的旗艦產品Twinscan EXE：5000系列，其規模之大和安裝複雜性是業界首創。
超級光刻機的運輸體積和重量令人印象深刻，總共使用了 250 個箱子進行裝載，重量約為 150 噸。 裝置從荷蘭原產地通過包機運輸到美國奧勒岡州波特蘭市，然後通過陸路分批運送到最終安裝地點。 核心部件目前正在安裝中，整個組裝預計將涉及來自ASML和英特爾的250多名頂尖工程師組成的團隊，這將需要大約六個月的時間。 安裝後，將有乙個漫長而微妙的除錯週期，以確保裝置處於理想的工作狀態。
據悉，這款高數值EUV光刻機的主要任務是作為研發平台，將對英特爾即將推廣的18A工藝節點進行關鍵技術驗證和實驗。 儘管如此，該裝置真正投入量產應用的時間表指向英特爾計畫在未來幾年內實現的 14A 製造節點，預計將在 2025 年至 2026 年之間實現。 與現有的低數值孔徑EUV光刻機相比，這種最先進的裝置能夠實現8nm解像度，顯著提高每次注射的細度水平，與目前的13nm水平相比有了質的飛躍，電晶體密度幾乎增加了三倍。
說到這款超高階光刻機的高成本，行業權威ASML公司給出的初步**大概是38 億美元，但這還只是基本配置**，如果考慮到更高階別的定製需求，總價還會進一步攀公升。 英特爾首席執行官帕特·基辛格（Pat Gelsinger）證實，他們購買的裝置成本接近4億美元，折合人民幣約29億元人民幣。 與低數值孔徑EUV光刻機相比，約1憑藉 83 億美元的市場**，很明顯，對這款尖端裝置的投資表明了英特爾對尖端技術開發的堅定承諾。
值得注意的是，英特爾並不是唯一一家押注高數值孔徑EUV光刻技術的晶元巨頭。 同樣處於全球半導體產業鏈頂端的三星、台積電、SK海力士紛紛下單這款高數值孔徑EUV光刻機，首批訂單已達數十台。 這意味著，在未來的半導體製造中，這些行業領導者正在與ASML合作，推動微電子技術的界限，朝著更小、更快、更節能的晶元製造工藝發展。
總之，英特爾接收並安裝全球首颱高數值孔徑EUV光刻機，標誌著半導體產業技術發展的乙個關鍵里程碑，標誌著新一輪技術創新和產業格局重塑在奈米級工藝競爭的軌道上悄然拉開帷幕。此舉不僅彰顯了英特爾對未來先進技術布局的戰略眼光，也深刻影響了全球半導體製造業的發展趨勢，將整個行業推向了更高的技術水平和更大的創新空間。